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上海伯东代理美国进口 KRI 线性离子源使用 eH 400 做为模组, 能应用于宽范围的衬底, 离子源长度高达 1 米, 通过严格调整模组间的距离可以实现好的均匀性和离子流. 由于模组是平行放置, 大大简化了气体, 功率和电子三者的分布. KRI 线性离子源使用标准的端部霍尔模组并使设备的需求简化, 一个低成本, 高电流和低能量的离子束可以很好的使用于 web 涂层, in-line 沉积和圆柱旋转溅射系统. 霍尔离子源 eH 400 尺寸 尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3” 放电电压 / 电流: 50-300eV / 5安培 操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体 KRI 霍尔离子源 eH Linear 技术参数 型号 eHL400-2/ eHL400-3/ eHL400-4/ eHL400-5 供电 DC magnetic confinement - 电压 40-200V VDC - 阳极结构 模块化 电源控制 eHL-30010A 配置 - - 阴极中和器 Filamentless - 离子束发散角度 > 45° (hwhm) - 阳极 标准或 Grooved - 底座 移动或快接法兰 - 高度 10 cm 宽度 10 cm - 长度 ~ 100cm -工艺气体 Ar, Xe, Kr, O2, N2, Others Model eHL 200-3 eHL 200-5 Height (nominal) 2.9” (7.4cm) 2.9” (7.4cm) Width (nominal) 3.3” (8.4cm) 3.3” (8.4cm) Length (nominal) Determined by number of modules & application Determined by number of modules & application Cathode/Neutralizer Yes Yes Anode module Yes Yes Filamentless Yes Yes Orientation Vertical / Horizontal Vertical / Horizontal Process gases Inert, reactive, & organic Inert, reactive, & organic Power con troller eH Plasma Power Pack eH Plasma Power Pack 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项砖利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理. 若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134
