离子源

因产品配置不同，价格货期需要电议，图片仅供参考，一切以实际成交合同为准。 射频离子源 RFICP 380 大口径射频离子源 RFICP 380 上海伯东美国 KRi 大口径射频离子源 RFICP 380, 3层栅极设计, 栅极口径 38cm, 提供离子动能 100-1200eV 宽束离子束, *大离子束流 > 1000mA, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用. 广泛应用于离子束刻蚀机. KRi 射频离子源 RFICP 380 特性 1. 放电腔 Discharge Chamber, 无需电离灯丝, 通过射频技术提供高密度离子, 工艺时间更长. 2kW & 1.8 MHz, 射频自动匹配 2. 离子源结构模块化设计 3. 离子光学, 自对准技术, 准直光束设计, 自动调节技术保障栅极的使用寿命和可重复的工艺运行 4. 全自动控制器 5. 离子束动能 100-1200eV 6. 栅极口径 38cm, 满足 300 mm (12英寸)晶圆应用 射频离子源 RFICP 380 射频离子源 RFICP 380 技术规格: 阳极 电感耦合等离子体 2kW & 1.8 MHz 射频自动匹配 *大阳极功率 >1kW *大离子束流 > 1000mA 电压范围 100-1500V 离子束动能 100-1200eV 气体 Ar, O2, N2,其他 流量 5-50sccm 压力 < 0.5mTorr 离子光学, 自对准 OptiBeamTM 离子束栅极 38cm Φ 栅极材质 钼 离子束流形状 平行,聚焦,散射 中和器 LFN 2000 高度 38.1 cm 直径 58.2 cm 锁紧安装法兰 12”CF 射频离子源 RFICP 380 基本尺寸: 射频离子源 RFICP 380 上海伯东美国考夫曼 KRI 大口径射频离子源 RFICP 220, RFICP 380 成功应用于 12英寸和 8英寸磁存储器刻蚀机, 8英寸量产型金属刻蚀机中, 实现 8英寸 IC 制造中的 Al, W 刻蚀工艺, 适用于 IC, 微电子,光电子, MEMS 等领域. 作为蚀刻机的核心部件, KRI 射频离子源提供大尺寸, 高能量, 低浓度的离子束, 接受客户定制, 单次工艺时间更长, 满足各种材料刻蚀需求! 射频离子源 RFICP 380 若您需要进一步的了解 KRi 射频离子源, 请参考以下联络方式