KRI霍尔离子源 eH 3000

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 上海伯东代理美国进口 KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上好的, 提供高离子束流的离子源. 尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6” 放电电压 / 电流: 50-300V / 20A 操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有机前体 KRI 霍尔离子源 eH 3000 特性 ? 水冷 - 加速冷却 ? 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时,大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极 ? 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率 ? 多用途 - 适用于 Load lock / 超高真空系统; 安装方便 ? 好的的等离子转换和稳定的功率控制 KRI 霍尔离子源 eH 3000 技术参数: 型号 eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE 供电 DC magnetic confinement - 电压 50-250V VDC - 离子源直径 ~ 7 cm - 阳极结构 模块化 电源控制 eHx-25020A 配置 - - 阴极中和器 Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode - 离子束发散角度 > 45° (hwhm) - 阳极 标准或 Grooved - 水冷 前板水冷 - 底座 移动或快接法兰 - 高度 4.0' - 直径 5.7' - 加工材料 金属 电介质 半导体 - 工艺气体 Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors - 安装距离 16-45” - 自动控制 控制4种气体 * 可选: 可调角度的支架; 　 KRI 霍尔离子源 eH 3000 应用领域: 溅镀和蒸发镀膜 PC 辅助镀膜 ( 光学镀膜 ) IBAD 表面改性, 激 活 SM 直接沉积 DD 1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项砖 利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理. 若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式 上海伯东: 邓小姐 T: +86-21-5046-3511 ext 109 F: +86-21-5046-1490 M: +86 1391-883-7267 台湾伯东: 王小姐 T: +886-3-567-9508 ext 161 F: +886-3-567-0049 M: +886-939-653-958 现部分品牌诚招合作代理商, 有意向者欢迎联络上海伯东 邓小姐 1391-883-7267 上海伯东版权所有, 翻拷必究！