钨钛合金靶材

合金靶材：镍铜合金靶， 铬铝合金靶，金钯合金，金锡合金，金锗镍合金，铝钒合金靶，铝铬钇合金靶，铝硅合金靶，铝硅铜合金靶，铝铁合金靶，镁铬合金靶，钼镍合金靶，镍铂合金靶，镍钒合金靶，镍铬合金靶，镍铬铝钇合金靶，镍硅合金靶，镍碳合金靶，镍铁合金靶，坡莫合金靶，钛硅合金靶，钛铝硅合金靶，钛硅碳合金靶，钛铝合金靶，钛镍合金靶，钛钨合金靶，铁碲合金靶，铁铬钴合金靶，铁钴合金靶，铁镍合金靶，铁钴镍合金，铁钴钒合金，铁钴硼合金，铂铑合金靶，铜镓合金，钴镍铬铝钇合金，铜铋合金靶，铜锌合金，铜锡合金靶，铜硒合金靶，铜银合金靶，钨钛合金靶，不锈钢靶、钼铌靶、铝钕靶、锆铝靶、铬钨靶、铬钒靶、钛铝靶、铜镓靶、铜铟镓靶、铜铟镓硒，锌铝靶等合金靶材。 在现有高速氧气燃料喷涂（HVOF）基础上又出现了高速空气燃料喷涂（HVAF），后者喷涂速度与前者相同，但温度下降至1000℃，气作为助燃剂，成本大幅下降。近年来随着材料科学和表面技术的快速发展，涌现出许多新型材料涂层，功能涂层。不同喷涂工艺的涂层。采用冷喷涂沉积Fe(Al)固溶体合金涂层并结合后热处理原位反应制备了纳米结构FeAl金属间化合物涂层。结果表明，球磨Fe(Al)合金粉末具有精细的层状结构，喷涂态Fe(Al)合金涂层具有不同于传统热喷涂涂层的独特层状结构。末类似的纳米结构；在500℃热处理后涂层中Fe(Al)固溶体转变为FeAl金属间化合物。其晶粒尺寸约为30nm。涂代加工，成为了现代工业的又一个趋势。 磁控溅射也可以叫做高速低温溅射，在与靶表面平行的方向上施加磁场，利用电场和磁场相互垂直的磁控管原理减少电子对基的轰击，使高速溅射成为可能。对Cu来说，溅射沉积速率为1.8μm/min时，温升为2℃／μm。CU的自溅射可在10-6Pa的低压下进行。热压法ITO靶材的热压制作过程是在溅射靶材石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后，以100kgf/cm2～1000kgf/cm2的压力单轴向加压同时以1000℃～1600℃进行烧结。热压工艺制作过程所需的成型压力较小，烧结温度较低，烧结较短。但热压法生产的ITO靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均匀。硅锭的数据对于生产工艺的分析、质量提高、工艺改进都有重要的作用，所以应当妥善归档保存。以前，铸锭完成后的硅锭直接去开方机进行开方。但现在，由于成本的要求，都希望将开方后的边皮料和顶皮料再进行回收利用。由于边皮料和顶皮料的回收利用需要清洗，因此，有些工作需要在开方前进行。首先，对硅锭进行喷砂处理，六个面均要喷掉1~5毫米厚。尤其是顶面，要喷掉的厚些。