氧化镁靶材

氧化镁靶材是一种高性能陶瓷溅射材料，在精密镀膜领域具有重要应用价值。其独特的物理化学性质使其成为现代光电产业、半导体工业和功能材料研发的关键原料。 在光学薄膜领域，氧化镁靶材通过磁控溅射制备的MgO薄膜具有优异的光学透明性和高折射率（n≈1.73），广泛应用于防反射涂层、激光镜面保护层等领域。特别是在等离子显示器（PDP）制造中，氧化镁保护层可有效延长显示面板寿命，其二次电子发射特性对维持等离子体放电稳定性起关键作用。 氧化镁在新能源领域也展现潜力，作为阻隔层应用于锂硫电池，可有效抑制多硫化物的穿梭效应。其化学稳定性（熔点2852℃）和抗热震性，使其成为高温防护涂层的材料。随着物相沉积技术的进步，高纯度（≥99.95%）氧化镁靶材的制备工艺不断优化，推动着光电、信息存储等产业向更高性能方向发展。

随着原子层沉积（ALD）技术的突破，可实现亚纳米级精度的MgO薄膜制备，在超表面光学元件中构建亚波长结构。例如，基于MgO的可见光超透镜厚度仅300 nm，却可实现0.7倍衍射极限聚焦，为微型化光学系统开辟新路径。其环境稳定性（耐酸碱、抗湿热）更保障了光学器件在环境下的长期可靠性。