平面氧化镁靶材

氧化镁在光学镀膜领域因其独特的物理化学特性而备受青睐，是高性能光学器件制备的核心材料之一。其宽禁带（7.8 eV）、高折射率（1.73@550 nm）和优异的光谱透射性（紫外至近红外波段透光率>90%），使其成为多层光学薄膜设计的理想选择。（氧化镁靶材）通过磁控溅射、电子束蒸发等工艺制备的MgO薄膜，在精密光学系统中展现三大核心应用价值： 1. 宽带减反射涂层：利用MgO与SiO2折射率差异（Δn≈0.5），构建梯度折射率结构。例如在相机镜头中，采用MgO/Al2O3/SiO2三明治结构可将可见光波段反射率降至0.2%以下，显著提升成像对比度。其硬度（莫氏6级）更优于传统MgF2涂层，增强器件耐磨性。 2. 激光光学保护层：在YAG激光器谐振腔镜面镀制200-500 nm厚MgO薄膜，可耐受1064 nm激光10 GW/cm?量级功率密度。其高热导率（48 W/m·K）能快速传导激光热冲击，结合低热膨胀系数（10.5×10??/℃），有效防止高温下的膜层开裂。 3. 特种滤光片介质：在深紫外光刻机中，MgO与LaF3交替沉积形成193 nm高反膜，反射率达99.97%。其本征吸收边位于130 nm的特性，使其成为极紫外光刻光学系统的关键材料。研究通过调控溅射氧分压，可获得非晶/纳米晶复合结构，将激光损伤阈值提升至15 J/cm?（355 nm, 10 ns）。