铝靶材图片

科技日报：ITO靶材属于35项卡脖子技术之一。UVTM掌握溅射靶材生产的核心技术以后，实施极其严格的保密措施，限制技术扩散，目前制备太阳能电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等在国内处于****水平。在中国光伏产业迅猛发展的前提下，作为薄膜太阳能电池上游的太阳能电池靶材市场规模也会保持高速发展。平板显示器不断向大尺寸方向发展，平板显示器的出货面积逐年加大；单个硬盘容量的逐年增长，推动了硬盘年销售总容量持续增长。国内大的半导体芯片用溅射靶材生产商，主要产品为各种高纯溅射靶材，钽靶、钨钛靶、LCD用碳纤维支撑等。高纯度溅射靶材主要应用于电子元器件制造的物理-气相沉积工艺。高纯铝及铝合金是目前使用广泛的导电层薄膜材料之一。 在这样的产业背景下，大部分国家对于晶圆的需求量将不断提升。据SEMI预测，未来两年，大部分国家晶圆出货量将从2017年的11448百万平方英寸上升到2019年的12235百万平方英寸.年复合增长率为3.38%。 基于此，2017年，大部分国家晶圆制造材料市场规模达到259.8亿美元，其中，靶材在晶圆制造和封测中占比均在3%左右，预计2018年大部分国家晶圆制造用靶材的市场增速可达19%，封测用靶材增速更高，将达到26%。 靶材所选背管需要具有良好的导电性和导热性，可为金属或合金。进一步地，可以是不锈钢，Mo，Ti，Ta，Cu，Al，Cr 等。根据靶材厚度不同选用槽宽不同的活动座，并可以根据靶材的长度调节各活动座的，使各活动座协同作用能够很好的起到支撑靶材的作用，避免靶材存放中由于支护不适而出现变形，能够很好的适用于各种靶材。溅射靶材在制备技术上按生产工艺可分为熔融铸造法和粉末冶金法两大类。在靶材制备过程中，在严格控制纯度、致密度、晶粒度、结晶取向的基础上，通过选择不同的热处理工艺及后续成型加工过程以确保靶材的质量。 通常的铟纯度都是4N的，也就是99.99%，要做6N（99.9999%）的铟，需要利用这一特性对铟金属进行真空熔炼可以把里面的蒸气压高的金属杂质除掉。日本是大部分国家主要的半导体材料生产国，并在半导体材料里长期保持优势，生产半导体芯片需要19种左右的必须的材料，缺一不可，且大多数材料具备非常高的技术壁垒。其中日本企业在硅晶圆、合成半导体晶圆、光罩、光刻胶、靶材料、保护涂膜、引线架、陶瓷板、塑料板、TAB（带式自动接合）、COF（薄膜复晶）、焊线、封装材料等14种重要材料方面均占有50%以上的份额。 UVTM的金属靶材作为应用于手机玻璃盖板的重要靶材产品，已获得多家手机玻璃盖板生产客户的认可，并已实现批量供货。在市场需求和政策鼓励下，国内半导体市场保持着平稳较快发展，国内半导体材料产业、靶材产业规模也日益扩大，其增速高于大部分国家增速，在大部分国家市场中所占份额逐渐提升。得益于中国大陆晶圆厂建设的迅猛势头，中国已经成为大部分国家具潜力的半导体材料新兴市场。2016年国内半导体用溅射靶材市场规模打破14亿元，大部分国家半导体用溅射行业高层度研究靶材市场规模打破12亿美元。我们预测，未来5年，国内高纯溅射靶材市场规模年复合增长率可达到13%，总规模超过25亿元。目前，雾度控制比较好的商业化TCO玻璃是AFG的PV-TCO玻璃。