快速退火炉-RAPID 150

Centrotherm 快速退火炉-c.RAPID 150

一、产品简介

德国CENtrotherm公司是国际主流的半导体设备供应商，尤其在高温设备领域。 c.RAPID 150是一款高性能、多用途的快速退火设备，主要用于满足研发和小规模量产所需的多种工艺要求。

测温系统适用于从室温至高温的广泛区间。优化的多区温控系统结合可以独立控制的加热灯，提供了出色的控温精度和控温重复性。

此款设备配置手动装载系统，适用于研发以及小型的量产。

成熟的真空操作和气体管理系统为多种应用提供了可控的气体环境。出色的性能和高度的灵活性，结合小的占地面积，低的客户拥有成本，使c.RAPID 150成为一款佳的手动RTP设备。

二、典型应用

l 退火：一般退火、接触层退火、源/漏退火、势垒金属退火

l 硅化

l 氧化

l 掺杂活化

三、产品特性

l 可在常压或者真空（控压）下工作

l 高度灵活性：适用于最大6寸的硅片或者可放置基片的6寸托盘

l 升温速率约150 K/s

l 出色的温度均匀性

l 确的环境控制

l 高的设备可靠性

l 可以并排安装

四、设备参数

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