超高真空多腔体电子束蒸发镀膜系统

超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪：可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜，目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结（量子比特和约瑟夫森结）和量子器件，可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。 更详细信息或资料，请咨询我们！  配置如下：

预处理腔：衬底旋转、倾斜（3D）；真空度10-8 Torr

蒸发镀膜腔：电子*6-15KW； 

可加载4英寸衬底；衬底旋转、倾斜，精度和重复性优于0.01°（可升级）

真空度10-10 Torr或10-11 Torr

频率分辨率10-4 Hz或更高；速率分辨率10-3 nm/s；厚度分辨率10-2 nm

氧化腔体：静态/动态氧化（氧气、氮气等）； 

真空度<10-8 Torr 
 

全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。 

典型用户：耶鲁大学、日本NTT、中科院物理所等 
欢迎进一步咨询！