喷涂钨靶材

用精密仪器设备在半导体芯片各个功能层上镀覆一层薄薄的透明金属导电膜，这层膜的厚度因功能需求而有不同，200纳米之间。不足头发丝直径五百分之一，以实现半导体金属的物理化学性能，称为薄膜。中国的车载芯片依稀可以窥见钨材料，更具体地说，是高纯钨溅射靶材，也就是纯度达到99.999％（5N）以上的钨靶材。那么，什么是钨溅射靶材？钨溅射靶材是制备电子薄膜的关键材料，也是溅射过程中的轰击目标。钨溅射靶材按照化学成分可以分为纯钨溅射靶材、钨合金溅射靶材和氧化钨溅射靶材。 成为为日韩提供铟金属原材料供应国。为了突破技术和产能瓶颈，有效利用铟资源，近年中国企业加快了ITO靶材技术研发和引进上马了多个ITO靶材国产化项目。然而，国内溅射靶材主要应用于中低端产品商，而靶材产品则从日韩进口。本土靶材厂商约占国内市场30%的份额，国内大部分的靶材市场则由日韩瓜分。近几年来，触控技术领域迅速发展。