钨靶

高纯钨溅射靶材的生产链主要包括金属钨的提纯、高纯钨靶材的制造以及溅射镀膜等过程。其中，高纯钨靶材的制造和溅射镀膜是整个高纯钨溅射靶材生产链中的重要过程。既然溅射镀膜是整个钨溅射靶材生产链中的关键环节之一，就很有必要了解一下什么是溅射技术？溅射技术是制备电子薄膜材料的主要技术之一，是物相沉积技术中的一种。溅射原理：用高压加速气态离子轰击钨靶材。 目前制备薄膜电池较为常用的溅射靶材包括铝靶、铜靶、钼靶、铬靶以及ITO靶、AZO靶(氧化铝锌)等。在AZO薄膜的制备方法中，磁控溅射技术具有成膜致密和成本低等优点。要获得高性能的AZO薄膜，直流磁控溅射一般要求基片加热到200~500℃，提高了实际应用中的成本。