银管靶

银靶基于物理相沉积(PVD)的溅射工艺具有薄膜纯度高、成膜质量好、沉积速度快、工艺稳定可靠等优点，广泛应用于集成电路生产制造中具有不可替代性。溅射沉积薄膜的原材料就是靶材，靶材的化学纯度、筹备性能等直接决定了芯片中接触层、介质层、互连层等薄膜的性能，从而影响电子产品的性能和寿命。芯片对溅射靶材的要求非常高，它要求靶材纯度要达到5N(99.999%)以上。 溅射镀膜和真空蒸发镀膜是主流的两种PVD镀膜方式，PVD技术是制备薄膜材料的主要技术之一，用于制备薄膜材料的物质被称为PVD镀膜材料。经过多年发展，PVD镀膜技术被广泛用于应用于电子、光学、机械、建筑、材料等领域。新技术层出不穷，我们关注，希望在未来能够与时俱进。