氧化锆靶材密度

所谓溅射，是制备薄膜材料的主要技术，也是PVD的一种。它通过在PVD设备中用离子对目标物进行轰击，使得靶材中的金属原子以一定能量逸出，从而在晶圆表面沉积，溅镀形成金属薄膜，其中被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料。金属靶材:镍靶、N、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、kg、铌靶、№b、锡靶、Sn、铝靶、A1、铟靶、I、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiΔl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶Sⅰ、铜靶Cu、钽靶T、a、锗靶、e、银靶、Ag、钻靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、亿靶、Y、铈靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、H、钼靶、M、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等。 镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光****中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤效应。例如:蒸发镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材(如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。 陶瓷靶材分为化合物陶瓷靶材和氧化物靶材，产品包含氧化物、氟化物、氮化物、碳化物、硼化物、硫化物、硅化物、硒化物、碲化物、磷化物以及各类混合掺杂物，纯度99.5%-99.999%，适合磁控溅射镀、热蒸镀、电子束蒸镀，产品广泛应用于各类半导体行业、太阳能光伏光热行业、建筑、装饰、汽车、平面显示、LCD、LED、集成电路，元器件、磁记录、装饰、工具镀膜、航空航天、科研等领域。不同的氮化物，可以获得不同的镀层颜色。其中，TiAlN是蓝灰色涂层，硬度越HV3300，耐热900℃。可用于高速加工；GrN是银灰色涂层，良好的润滑性能，主要用于有色金属加工。