氧化铌靶材价格表

氧化铌靶是在平面显示主要提供的靶材。近年来，国内的靶材制造商的设备和技术都得到较大的升级，部分靶材供应商接近国外进口靶材的品质。磁控溅射技术是目前重要的工业化大面积真空镀膜技术。它相比其他溅射镀膜，具有高速、低温、低损伤等优点。 市面上的氧化铌靶材有平面氧化铌靶和旋转氧化铌靶，其中旋转氧化铌靶因为利用率高，换靶周期长而受到追捧。 以下介绍磁控溅射靶材里面重要的一款：旋转氧化铌靶 Rotatable Nb2Ox target 1. 产品用途（Application） 用于制作Nb2O5膜，主要用于光学玻璃、触摸屏之AR膜系，Low-E玻璃膜系。 2. 产品化学成分和物理性能（Physical and Chemical Properties ） 化学式( Chemical Coition) ：Nb2Ox (x<5) 电阻率（Resistivity） （20°C）：< 0.1 ohm. cm 成型工艺（Molding process）：热喷涂（HPS） 密度(Density ):>4.3g/cm3（>95%） 纯度(Purity): > 99.95%