铌靶材多少钱

磁控溅射靶材广泛应用于用于建筑/汽车玻璃工业、薄膜太阳能工业、平面显示工业、装饰/功能镀膜工业。随着国内靶材行业研发的投入和发展，国内已有靶材供应商、制造商的生产出来的靶材达到了进口的水平。在广州，尤特新材料成为个研制最长、最厚旋转靶材的制造商，随着研发的持续投入，国内靶材行业的未来值得期待。 磁控溅射是一种物相沉积的。溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料，具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。因为是在低气压下进行高速溅射，必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场，利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。 平面靶材主要产品目录 Planar Target List 1. 铬靶（Cr Target） 2. 硅靶（Si Target） 3. 钛靶（Ti Target ） 4. 石墨靶（C Target） 5. 银靶（ Ag Target） 6. 铜靶（ Cu Target） 7. 钛铝合金靶（TiAl Alloy Target） 8. 镍铬合金靶（NiCr Alloy Target） 9. 氧化钛靶（TiOx Target） 10. 钼铌靶 （MoNb Target) 11. 铝钕靶 （AlNd Target) 12. 氧化铌靶 (NbOx Target） 13. 氧化锌铝靶 (AZO Target) 14. 氧化锌靶 (i-ZnO Target ) 15. 钼靶 (Mo Target)