光学镀膜设备

冷成型模真空镀膜机

高强度材料成形冷成型模真空镀膜机高强度金属成型中存在的高成型压力和产生的摩擦成为工模具和涂层要面对的重要挑战。PVD和CVD涂层展示的韧性、耐磨性和抗磨损性能显著提高工具的生产能力。

HC90Concept，作为一种无需氮化处理的新型物理气相沉积（PVD）涂层，对于这些应用领域来讲是非常理想的解决方案。HC22，HC25，HC30或HC62，均结合了氮化处理，对于公差要求高的工具是非常合适的涂层方案。HC02和HC62是非常适合公差要求不高工具的涂层方案。

有色金属材料成型有色金属材料通常比一般钢材有更好的成形性，但其表面更难改变。HCPVD和PACVD涂层工艺的韧性、耐磨性、低摩擦和抗磨损性能够显著加强工具的生产能力，提高零部件的质量。冷锻冷锻是一种将固定大小的金属块组合成等量的复杂形状的成型工艺。此过程中的工模具要经受高强度的压力和高速率，和工件接触的表面必然会产生磨料和粘着磨损。HCPVD和PACVD和HCCVD涂层工艺的韧性、耐磨性和低摩擦性能能够显著提高工模具的使用寿命和产品的质量。

真空镀膜机镀膜层厚度范围真空镀膜机能够沉积的镀膜层厚度范围为0.01-0.2，可以在这个范围内选择，有的还可以镀多层膜，满足多种需要。日本专利提出沉积两种不同镀膜材料的卷绕式蒸镀装置。该装置的真空室分为上室，左下室和右下室。蒸镀时，两组蒸发源蒸发的镀膜材料分别沉积在塑料薄膜上，在塑料薄膜没有蒸镀的一侧，装上辉光放电发生器。发生器产生的辉光放电气体能防止塑料薄膜起皱。使用这套装置可以在极薄的塑料薄膜上镀上无折皱的多层膜，用于制磁带和薄膜太阳能电池等。

真空镀膜机镀铝时,应该注意哪些事项

用真空镀膜设备镀铝膜，基本工艺流程为：预真空─离子清洗─镀铝─离子轰击─镀保护膜─放气。预真空对镀膜室抽真空至5×10，2Pa时，充入Ar气430mL，利用2个适当的电极间的低压辉光放电产生的离子轰击达到清洗和辅助预热镀膜基底的作用，轰击时间为150s;镀铝部分蒸发器快速升至高温，铝丝从预热、熔化、蒸发镀铝到镀铝完成的时间为30s多;采用二次离子轰击，去除膜表面粒状颗粒，使膜层更加致密，轰击时间为80s;镀保护膜时间为(200±50)s，真空度为3×10?2Pa，由充入的硅油流量加少量Ar气来控制真空度，硅油流量由调节阀控制，直至放气结束。