真空镀膜设备厂家

镀膜过程中产生喷点主要有以下几种原因:

1、镀膜材料纯度不高，含杂质较多,预熔过程中无法将这些杂质去除,蒸镀过程中杂质溅上工件表面形成喷点。

2、材料较为潮湿,预熔时电子枪光斑不能将表面的材料全部熔化,在蒸镀过程中也容易产生喷点(这种情况在用国产电子枪镀制MgF2及一些直接升华的材料时较易发生)。

3、镀膜前对材料进行预熔时不够充分,蒸镀过程中材料里的细小颗粒溅上工件表面形成喷点。

4、镀膜过程中,电子枪束流过大引起的材料飞溅产生的喷点。

无油真空西永是使用分子泵和低温泵作为主泵的，其特点主要集中在能够连续大量抽气，可以获得清洁无油的超高真空。并且该系统启动时间快，停泵时间短。但是该系统抽重气体比抽轻气体快，对水蒸气类型的的抽速比较慢，当气体大量经过泵的时候，抽速就会下降的很快。这两种真空镀膜设备各有各的优点和缺点，使用者应该考虑自己的需求来进行选购。

影响镀膜机磁控靶点火电压的几个因素

气体压力对点火电压的影响：在磁控靶溅射镀膜工艺过程中，由于磁控靶的阴-阳极间距一经确定就是一个大体不变的值，工作气体的压力在一定的(例如0.1Pa~10Pa)范围内变化可能会对点火电压产生较大的影响，总的变化趋势为：随着工作气体的压力的逐步增大，磁控靶点火电压相应降低。不同的磁控靶、不同材质的靶材，靶启辉点火的工作气体压强不尽相同。

电源对点火电压的影响：在同等条件下，选用射频靶电源比选中频或直流靶电源，磁控靶阴极点火电压和工作(溅射)电压都会要降低;选用射频、中频正弦半波或脉冲靶电源，比选低频率同类波形靶电源，阴极点火电压和工作(溅射)电压均会要降低;