PVD中频离子镀膜设备

光学真空镀膜机清洗和保养方法

光学薄膜在我们的生活中无处不在，从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。光学镀膜技术以及普及到人们生活方方面面，因此光学真空镀膜机也是大家目前非常关注的话题。今天至成真空小编为大家介绍一下光学真空镀膜机在平时运行的时候该如何清洗和保养问题，希望能让大家对光学真空镀膜机多一些了解。

首先我们来介绍一下光绪真空镀膜机的清洗问题：设备使用一个星期后，因镀料除镀在工件表面外，亦因无定向性而工作室内的衬板上镀料，并越镀越厚，该层膜厚因组织、繞疏松，吸收大量气体而造成真空镀膜设备抽气越来越慢。此时，应对工作室及衬板进行清洗，如不必要拆落来的部件，可用砂纸打磨干净。

因此，衬板必须烘干水份才能安装，烘干前，衬板的水分尽量抹干，工作架等部件用砂纸清洁后，需要把真空室的所有灰尘清理干净，此可用吸尘器吸干净灰尘。最后安装衬板时，真空室及衬板都需要用酒精控拭干净。如使用电子枪及离子源辅助镀膜，可能会造成清洁困难，可使用喷沙等方法来清洁。

真空镀膜的膜层厚度如何测量？

在使用真空镀膜机镀膜之后，为了需要可能会要测量膜层的厚度，测量膜层的厚度用什么方法呢?

最直接的镀膜控制方法是石英晶体微量平衡法(QCM)，这种仪器可以直接驱动蒸发源，通过PID控制循环驱动挡板，保持蒸发速率。

只要将仪器与系统控制软件相连接，它就可以控制整个的镀膜过程。但是(QCM)的精准度是有限的，部分原因是由于它监控的是被镀膜的质量而不是其光学厚度。

此外虽然QCM在较低温度下非常稳定，但温度较高时，它会变得对温度非常敏感。在长时间的加热过程中，很难阻止传感器跌入这个敏感区域，从而对膜层造成重大误差。

光学监控是高精密镀膜的的优选监控方式，这是因为它可以更精准地控制膜层厚度(如果运用得当)。

精准度的改进源于很多因素，但最根本的原因是对光学厚度的监控。

真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的?

真空镀膜机离子镀技术市场使用占比率非常高，镀餐具，镀家居，镀饰品等都离不开离子镀膜技术，离子镀膜技术不仅仅在国内受追捧，国外也是一样受喜爱。那么，真空镀膜设备离子镀的类型及特点是怎样的？下面至成小编为大家详细介绍一下：

离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。