真空离子镀膜设备

PVD真空镀膜设备蒸发系统工作方式

PVD真空镀膜设备蒸发系统主要指成膜装置部分，PVD镀膜机的成膜装置很多的，PVD镀膜有电阻加热、射频溅射、离子镀等多种方式。PVD镀膜电阻蒸发根据其结构和工作原理是目前为止应用多的，PVD镀膜最广泛的蒸发方式，PVD镀膜也是应用时间长的蒸发方式。

下面介绍PVD镀膜电阻加热和电子枪蒸发的方式：

PVD镀膜将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，再热传导给PVD镀膜材料，当钨舟的热量高于PVD镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了，PVD镀膜由于操作方便，结构简单，成本低廉。PVD镀膜电子枪蒸发是到目前为止应用多的一种蒸发方式，PVD镀膜可以蒸发任何一种PVD镀膜料。

将镀膜材料放在坩埚里面，PVD镀膜将蒸发源制作成灯丝形状，PVD镀膜由于灯丝的材料是钨，形成了一股电子束，PVD镀膜由于电子束温度非常高，PVD镀膜可以熔化任何镀膜药材凝结下来。

至成真空十多年来专业从事各种真空镀膜应用设备制造，多年来致力于研发和生产真空镀膜机，以新技术不断制造出满足市场需要的真空电镀设备，为客户提供定制化的工艺解决方案和机器。

多弧离子PVD镀膜设备镀工艺及应用

离子镀基本工艺流程

①工件的预热．

一般的离子镀方法使用烘烤加热装置对工件进行加热，而热阴极离子镀则是利用等离子电子束轰击工件；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热，达到预热的目的，有时电弧离子镀也采用辅助烘烤加热装置对工件进行预热。

②离子轰击溅射清洗．

一般离子镀的离子轰击溅射清洗是基片施加负偏压，利用辉光放电产生的Ar离子轰击基片，对基片进行离子轰击溅射清洗，而热阴极离子镀是利用等离子电子束轰击辅助阳级，Ar离子轰击基片进行离子轰击溅射清洗；电弧离子镀是利用金属离子轰击工件，对工件加热的同时对工件进行离子轰击溅射清洗。

③离子沉积.

不同的离子镀方法在离子沉积时，所使用的源和离化方法不同，具体的设备不同，沉积的膜层不同，其工艺程序和工艺参数也不同，因此，应根据具体情况确定沉积的工艺程序和工艺参数，还应注意在整个沉积过程中保持工艺参数的稳定。

双色真空镀膜机PVD技术的应用范围及优缺点

很多人对真空镀膜机PVD技术的了解不是特别全，也不知道具体是应用到哪些行业，以及它在实际运用过程有哪些优缺点?至成真空小编现在详细和大家介绍一下:

真空镀膜机PVD技术其应用范围是：

1）碳钢、合金钢、不锈钢及钛合金等金属材料；

2）金属材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

真空镀膜机PVD技术其优点是:

与传统磁控溅射单色PVD技术相比，双色PVD工艺更为复杂，流程更为繁杂，生产难度高，但外观效果极佳，两种颜色的表面硬度都在HV600以上。传统磁控溅射单色PVD技术要在实现双色效果，采取的工艺措施是在整体PVD单色的基础上把需要实现另一种颜色的区域激光镭雕掉或者磨掉。新加工出来的区域就只能表现金属的本色，表面硬度也就是金属本身的表面硬度---HV200左右（而PVD后的表面硬度为HV600以上）。