C靶材

随着石墨加工技术的提高，石墨靶材兴起，石墨靶材也会被应用在更加广阔的领域中,在市场中，优质石墨靶材主要来源日本、德国、美国，不仅是在靶材行业，在石墨行业我们这些国家的差距还是很大的。在靶材行业中，我们常见到的有金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材、这些在靶材在微电子、显示器、储存等行业有着广泛的应用。石墨靶材自身具有耐高温、自润滑、耐腐蚀、导电性良好等特点，用石墨做靶材，根据行业的不同选用不同材质的石墨材料，在选材上市重要的环节，然后就要考虑石墨靶材加工中的技术问题，靶材材质的要求很严格，对加工技术的要求同样是一丝不苟的。石墨靶材的精度和误差都是重要的因素。UVTM为客户提供各种稀有金属靶材，多种材料合金靶材，陶瓷靶材，粉末和颗粒靶材，主要有铬、钛、不锈钢、硅、钼、锡、石墨、ITO、镍铬、钛铝、铬铜邦定等靶材。 溅射靶材磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率加大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛。除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。 目前，国内靶材厂商主要聚焦在低端产品领域，在半导体、平板显示器和太阳能电池等市场还无法与国际巨头一体竞争。依靠国内的巨大市场潜力和利好的产业政策，以及产品势，它们已经在国内市场占有一定的市场份额，并逐步在个别细分领域抢占了部分国际大厂的市场空间。 UVTM可提供硅材料等，硅靶材和晶圆的直径可达18英寸。目前，硅晶圆主流尺寸为8英寸、12英寸。UVTM的硅靶材作为应用于手机玻璃盖板的重要靶材产品，已获得多家手机玻璃盖板生产客户的认可，并已实现批量供货。色彩一直是时尚设计的热点，而手机配色也是F设计师们设计的重点之一。5G时候手机后盖去金属化，然而不管是玻璃、陶瓷、塑胶材质的手机外观结构件，F设计师们都会考虑酷炫纹理、金属质感、亮银色、陶瓷光泽、渐变色等效果，而这些良好的装饰效果都离不开PVD真空镀膜。金属中框也需要和后盖保持同样炫丽的外观，iPhoneXS金色及太空灰色系列不锈钢中框就是采用的PVD色彩工艺。