广州石墨靶材

UVTM严格控制生产，对材料成分、密度、微量元素分析、表面光洁度等进行科学管控，生产过程中不断改进技术、研发新产品，保证产品的高合格率及供货稳定性。自公司成立以来，蒂姆新材料产品广泛应用于LED半导体芯片、光学镜头镀膜、液晶显示器、装饰和功能镀膜、太阳能光伏、数据储存等行业，质量达到水平，受到广大用户好评。金属铝靶材Al，金属锑靶材，金属铋靶材Bi，金属靶材Cd，硼靶材B，碳靶材C，石墨靶材C，稀土靶材Ce，金属铬靶材Cr，金属钴靶材Co，金属铜靶材Cu，稀土金属镝靶材Dy，稀土金属铒靶材Er，稀土金属铕靶材Eu，稀土金属钆靶材Gd，锗靶材Ge，黄金靶材Au，金属铪靶材Hf，稀土金属钬靶材Ho，金属铟靶材In，金属铱靶材Ir，金属铁靶材Fe，靶材La，金属镥靶材Lu，金属镁靶材Mg，金属锰靶材Mn，难熔金属钼靶材Mo，稀土靶材Nd，金属镍靶材Ni，货品银靶材Ag，金属硅靶材Si。 在半导体溅射靶材方面，国内与国际差距主要在溅射靶材上游材料（非常高纯原材料方面）与服务于集成电路制程的新产品。溅射镀膜技术起源于国外，所需要的溅射材料——靶材也起源发展于国外。国外靶材公司，在靶材研发生产方面已有几十年的积淀。同时，随着半导体工业技术创新的不断深化，以美国、日本和德国为代表的半导体厂商加强对上游原材料的创新力度，从而更大限度地保证半导体产品的技术性。当前中国靶材制造商在部分靶材制造工艺上已达到了水平。产品质量获得国内外下游厂商的认可；同时通过在下游企业工厂附近建厂。靶材价格可能会比国外厂商低10%-15%，替代必要性和战略意义明显。 日韩和在大部分国家半导体产业链中有重要地位。元器件及材料的生产对于货品靶材面板显示产业的基础环节，所使用的PVD镀膜材料主要为溅射靶材，其性能如分辨率、透光率等都与溅射薄膜的性能密切相关。光学器件应用范围非常广泛，主要包括智能手机、车载镜头、安防监控设备、数码相机、光碟机、投影机等，元器件及光学镜头。我国溅射靶材研发生产技术还存在一定差距，市场影响力相对有限，尤其在半导体芯片、平板显示器、太阳能电池等领域，溅射靶材市场依然被美国、日本的溅射靶材生产厂商所控制或垄断。随着溅射靶材朝着更高纯度、更大尺寸的方向发展。不断进行研发创新。靶材产品包括铝及其合金靶材、钛靶、铜靶、钽靶等。