硅靶厂家

氧化铟(分子式:In2O3)是电阻式触摸屏中经常使用的原材料，璃、陶瓷、化学试剂等。铟锡氧化物/硅太阳电池,简称ITO/Si太阳电池,其优点是结构简单,避免高温扩散工艺,不仅适用于单晶材料,更适用于多晶和非晶材料,有较好的短波响应,形成p-n结的ITO膜又可兼作减反射膜.ITO/Si太阳电池的制作,可以采用喷涂,真空蒸镀,溅射和化学气相沉积等方法。铟是我国的优势矿产资源,原生铟产量长期居前列,但国内二次回收和下游应用产业尚处于初级阶段,国内铟产量与消费量不平衡,长期处于供过于求状态。氧化铟是一种新的n型透明半导体功能材料，具有较宽的禁带宽度、较小的电阻率和较高的催化活性，在光电领域、气体传感器、催化剂方面得到了广泛应用。除具有以上功能外，还具备了纳米材料的表面效应、尺寸效应、小尺寸效应和宏观隧道效应等。

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    由于靶材和阳极表面的电荷积累，直流反应磁控溅射会遇到靶中毒、阳极消失及靶面和电极间打火等问题。这些问题可以通过施加交变电压不断提供释放靶电荷的机会来解决。根据所采用交变电源的不同，又可分为采用正弦波电源的中频溅射法和采用矩形脉冲电源的脉冲溅射，这两种方法在解决上述问题的同时，还可达到较高的沉积速率。Ohno等采用中频反应双极磁控溅射，以Ti(99.99%)为靶材，旋转硅靶厂家，以未加热的非碱性玻璃为基体，沉积速率可达30 nm·min-1，比常规单极磁控溅射高得多。但上述两种溅射技术的控制过程复杂，对设备要求很高。

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