高纯镍靶材

 靶材制造和溅射镀膜环节是整个溅射靶材产业链中的关键环节。半导体领域对靶材要求较高。溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一，综合优势显著溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，用溅射靶材沉积的薄膜致密度高。WSTS（半导体贸易统计组织）数据显示，溅射靶材主要应用在平板显示、记录媒体、光伏电池、半导体等领域。其中，在溅射靶材应用领域中，半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面都设定了极其苛刻的标准，需要掌握生产过程中的关键技术并经过长期实践才能制成符合工艺要求的产品。因此，半导体芯片对溅射靶材的要求是较高的，价格也较为昂贵。靶材产业链：溅射靶材产业链基本呈金字塔型分布。产业链主要包括金属提纯、靶材制造、溅射镀膜和终端应用等环节。