氧化铌靶材厂家

靶材按材料种类型分，可分为金属靶材、合金靶材、化合物靶材。不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。氧化物薄膜材料在液晶面板、触摸屏、薄膜太阳能电池、发光二极管等产业上获得了广泛应用。目前国内氧化物薄膜材料的制备方法和技术有很多，其中主要的方法有脉冲激光沉积、磁控溅射、电子束蒸发、分子束外延等物理方法。由于磁控溅射铁磁性靶材的难点是靶材表面的磁场达不到正常磁控溅射时要求的磁场强度，因此解决的思路是增加铁磁性靶材表面剩磁的强度，将铁磁性靶材的厚度减薄是解决磁控溅射铁磁材料靶材的常见方法。如果铁磁性靶材足够薄，则其不能完全屏-蔽磁场，一部分磁通将靶材饱和。其余的磁通将从靶材表面通过。

粉末冶金工艺制做钛铝靶材没有疏松和缩孔的问题，氧化镍溅射靶材，但从粉末冶金微观来看也是多孔材料，所以要想制做钛铝旋转管靶，对材料致密性要求很严，密度必需>98%以上。但符合密度要求也不代表可以使用。如果钛铝锭的含氧量很高而且微观结构不合理，钛铝锭内应力大，容易崩，也是不能做旋转管靶的，所以在粉末制做和粒度配比上有很多条件要求。