AZO靶材生产厂家

真空镀膜技术是现今一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面处理技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是使置待镀金属制品位于真空炉内，采用一定方法加热待镀材料，使金属蒸发或升华，金属蒸汽遇到冷的金属制品表面凝聚成金属薄膜。在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向金属制品过程中和其他分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa，对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合，则要求压力更低（10-5Pa）。镀层厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附着力差，易脱落。厚度0.04时反射率为90%。