氧化锌铝靶材

磁控溅射镀膜靶材：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材。根据整理的数据显示，半导体行业2018年海外业务收入502亿，占半导体行业总营收1130亿元的约44.48%。由于高纯金属靶材制品技术难度大，需求量大而其资源又非常缺，因而要求金属的深加工技术朝高纯化、精细化、效率的方向发展。高纯钽靶材和高纯铝靶的应用非常广泛。50%-70%的钽以电容器级钽粉和钽丝的形式用于制作钽电容器。高纯铝工厂使用的联合法，就是以99.7%-99.9%的原铝为原料。先用三层电解法提纯到99.99%，而后通过偏析法可获得5N-6N或更高的高纯铝和超纯铝。实现半导体5N级超高纯铝溅射靶基材实现批量供应。国内已有企业具备联合法提纯5N(99.999%)及以上超高纯铝和高纯化熔炼铸造生产能力的企业。打破了国外垄断。