氧化铌靶材

溅射镀膜是制备薄膜的主要技术之一，综合优势显著。溅射薄膜制备的料，又称溅射靶材。PVD镀膜目前主要有三种形式，分别是溅射镀膜、蒸发镀膜以及离子镀膜。综合而言，蒸镀薄膜的密度较差，只能达到理论密度的95%，镀膜的附着力也较差，但是蒸镀的镀膜速率较快。离子镀不但密度较高、晶粒较小，而且镀膜与基板的附着力也是三种镀膜中较大的，只是离子镀膜较大的缺点是基板必需是导电材料，并且镀膜时基板的温度会升高到摄氏几百度，上述的缺点使离子镀的应用受到很大的限制。 目前，溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，用溅射靶材沉积的薄膜致密度高，与基材之间的附着性好，所以从理论而言，溅射镀膜的性质，牢固度都比热蒸发和电子束蒸发薄膜好。