PLD 脉冲激光沉积镀膜设备

厂商 :北京维意真空技术应用有限责任公司

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  • 磁控溅射镀膜机
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商品详细描述

超高真空激光外延系统

一、 系统的主要组成及技术指标

系统由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、旋转靶台、真空排气、真空测量、电器控制、配气、计算机控制等各部分组成。

1、 ★★外延室:

极限真空优于:5.0x10-8Pa

真空漏率小于2.0x10-8Pa.l/S

1.1、 真空室组件:1

       真空室采用球形结构,尺寸:Ф450mm;选用0Cr18Ni9Ti不锈钢材料制

造,氩弧焊接,表面喷玻璃丸及电化学抛光处理,全部接口采用金属垫圈密

封,腔体上各种法兰接口如下:

1.1.1 CF250接口法兰1个(接升华泵);

1.1.2 CF200接口法兰1个(接靶组件);

1.1.3 CF150接口法兰4个(接样品台组件、分子泵、离子泵、活开门

  组);

1.1.4 CF100接口法兰7个(接2个激光入射窗口、高能电子衍射电子

 、荧光屏  口、进样室口、2个光谱口);

1.1.5 CF50接口法兰5个(2个观察窗口、1个红外测温窗口、2个备用);

1.1.6 CF35接口法兰5个(接规管、放电电极、2个备用);

1.1.7 CF16接口法兰6个(低真空规管、放电电极、进气管路、充气阀、 照明、备用

1.2 旋转靶台组件:1

1.2.1、CF200密封法兰,靶与样品之间距离可调30~90mm(腔外调节);

1.2.2、靶组件为垂直结构,靶材尺寸Φ70mm, 每次可以装四块靶材;提供可安装直径分别为Φ25mmΦ30mmΦ50mmΦ70mm靶材的靶材架各四套。

1.2.3、每块靶材可实现自转,磁力耦合传动,转速560转/分,连续可调,电机驱动;

1.2.4、公转换靶采用波纹管转轴驱动,由电机控制;

1.2.5、靶的定位与靶距调节均采用光电开关定位,靶组件的中心位置定在前方靶面与基片的距离为60mm的位置,为了保证靶定位精度,采用细分驱动器控制电机;


1.3、 基片加热台组件:1

1.3.1、 基片尺寸:提供安装1*1cm方形基片的基片架六套;Φ25和Φ51圆形基片的基片架各两套。

1.3.2、★★采用材料作加热器;基片加热温度 800°C±1°C,由热电偶闭环反馈控制;基片温度误差小于±1°C;基片温度从中心到边沿的偏差小于±1°C。

1.3.3、 基片台可以作前后手动移动,采用波纹管密封结构,基片以RHEED的位置为准可拉出30mm,缩进20mm;

1.3.4、 基片可连续回转,转速560转/分,电机驱动;

1.3.5 、样品挡板组件;

1.4、窗口及法兰盲板组件

1.4.1 、供准分子激光入射用的石英玻璃窗口(选用JGS1-1型石英玻璃):6个

1.4.2 、观察用玻璃窗CF50:2个

1.4.3 、红外测温窗CF50:1个

1.4.4 、CF35盲法兰:1个

1.4.5 、CF50盲法兰:2个

1.5、 活开门组件:1套

1.5.1、 上焊接Ф50mm 通导窗口;

1.5.2、 采用胶圈,金属两用密封结构;

1.6、 工作气路组件:3条

1.6.1、质量流量控制器、DG16角阀、管路、接头等:2路

       质量流量计范围:1--100SCCM(厂家:北京汇博隆)。

1.6.2、CF16角阀、管路、接头 :1路

1.7、工作真空获得:机械泵+分子泵+离子泵+升华泵

1.7.1、抽速:8升/秒,2XZ-8直连机械泵:1台

1.7.2、抽速:620升/秒,分子泵及控制电源:1台

1.7.3、抽速:400升/秒,溅射离子泵及控制电源:1台

1.7.4、钛钼丝升华泵及控制电源:1台

1.7.5、CC-150-B闸板阀:2台

分别用于分子泵与外延室隔离,离子泵与真空室隔离。

1.7.6、CC-100-B闸板阀:1台

进样室与外延室隔离。

1.7.7、分子泵与机械泵软联接金属软管:1

1.7.8、电磁隔断放气阀:DN40:1台

1.8、★★真空测量

1.8.1、DL-7型超高真空测量规、计:1套

       测量范围:1.0x10-2Pa~1.0x10-8Pa;

1.8.2、ZDF复合真空计测量低真空:1套

     测量范围:1.0x105Pa~1.0x10-1Pa;


2、进样室:

极限真空优于:1.0x10-5Pa;

真空漏率小于5.0x10-8Pa.l/S;

2.1、 真空室组件:1

真空室腔体尺寸Ф150x150mm,上面开有连接样品传输杆、真空泵、活开

门、真空规、放气阀等各种规格的法兰接口,选用0Cr18Ni9Ti不锈钢材料制

造,氩弧焊接,表面喷玻璃丸及电化学抛光处理。

2.2、★★真空部件

2.2.1、 磁力样品传送杆,传送距离700mm:1套

2.2.1、 压力表,放在进气阀门外:1套

2.2.1、 观察窗组件:1套

2.3、★★工作真空获得:机械泵+分子泵

2.3.1、直联机械泵:1台(抽速4升/秒);

2.3.2、复合分子泵及变频控制电源:1台(抽速600升/秒);

2.3.3、分子泵与机械泵软联接金属软管:1

2.3.4、CF150-B闸板阀:1台(用于分子泵与样品引进室隔离);

2.3.5、ZDF量程高真空测量规、计:1套(用外延室真空计的另外两路)

         低真空规:1套(1.0x105Pa~1.0x10-1Pa);


         电离规:1套(1.0x10-1Pa~1.0x10-5Pa); 

2.3.6、高真空角阀CF16、管路、接头、充气阀D6等:1路(解除真空充氮气);

2.3.7、KF25电磁压差阀:1台;

2.3.8、KF40电磁截止阀:1台;


2.4、相关规格的金属密封铜圈,氟橡胶密封圈:全套

2.5、不锈钢紧固螺栓、螺母、垫片等: 全套

 

3、 安装机台架组件:1

安装台架:整个设备安放在一个用型钢焊接而成的台架上,台面板由不锈钢蒙皮装饰,台架及围板均进行喷塑处理。机台有移动/固定脚轮两用。

4、 电源控制系统 1套

自制电源

4.1、总控制电源:1套

4.2、电源控制机柜:2台   

4.3、样品加热电源:1台

4.4、卤钨灯照明电源 1台

4.5、步进电机旋转电源:4套

4.6、升华泵电源:1套

4.7、机械泵启动控制电源:2套

外配套电源

4.83L-400离子泵电源:1套

4.9FB620分子泵电源:2套

4.10、电离真空计电源:2套

4.11、质量流量计电源(2显):1套

5、备品备件:1套

5.1、无氧铜密封垫圈(相关规格)

CF16:5个;    CF35:5个;   

CF50:5个;    CF100:3个; CF150:5个

Ф6mm:卡套:4套Ф6mm:不锈钢管:6米

5.2、氟橡胶密封圈

Ф150     3个    Ф100     3个

5.3、烘烤带:      4条

5.4、点钨灯:      5个

5.5、加热丝:      3米

6、配套仪器及控制系统

1)、★★差分式高能电子衍射仪(RHEED):                1套

1)、高能电源:能量25KV,束流100μA。

2)、三极溅射离子泵(抽速:25升/秒)及阀门、管道:1套

3)、荧光屏:1快

4)、荧光屏挡板:1套

5)、照像用黑筒:1套

2)、★★RHEED强度振荡,生长速率监测系统              1

      主要由摄象头,硬件,计算机控制软件包等组成。

3)、★★激光束扫描装置                             1                                                

1)、二维扫描机械平台。

2)、手动/自动,两套步进电机控制,执行两自由度扫描。

4)、★★氧等离子体发生器及电源                      1

5)、计算机控制系统 :                              1套

1)、由硬件卡,计算机控制软件包,及计算机组成。

2)、控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫描等。

6)、★★四极质谱仪(质量数:1---100):               1  

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