厂商 :淄博博山博富来制泵有限公司
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半导体工艺真空主要用在蒸发,溅射,PECVD,真空干法刻蚀, 真空吸附,测试设备,真空清扫等等键合工序,半导体生产制造过程中容易产生以及有毒的物质气体,会对生产及人员安全造成威胁,水环真空泵与冷凝器,因此,半导体水环真空泵应用时需要注意的几个安全事项: 1、定期清洗真空泵及其他附件、过滤、管道,避免超压:
半导体真空泵应用时,抽取介质过程中经过反应室与真空泵,其成分可能极为复杂,如SiH4与O2在泵口形成SiO2,TiCl4水解会形成HCl;假设是油封式机械泵,这些气体物质还可能与泵油发生化反。这些变化假设形成颗粒、可凝物或者腐蚀性介质,就可能堵塞真空泵或管路系统,水环真空泵 结构,影响真空泵性能,造成压力上升或超压,一点中提到的危险性也更大。所以需要及时的清洗,并在必要的时候设置过滤设备。。
我们常见的旋片式真空泵一般是油封式机械真空泵,在冶金、机械、、电子、化工、轻工、石油及等生产上有着重要的应用,下面就具体的给大家介绍一下设备的使用范围,方便今后的选择: 1、环境温度:旋片式真空泵的使用温度一般在不低于5℃的室温下,山西水环真空泵,而且环境的相对湿度不高于百分之九十。 2、进口压强在大于6500Pa时:需要连续工作的时间不得超过3分钟,以免喷油引起泵损。 3、气体类型:常温无其它混合物的清洁干燥空气,不许有含其它粉尘及水分的空气。 4、进口压强在小于1330pa时:允许真空泵长时期连续工作。 旋片式真空泵的泵内偏心安装的转子和定子固定面相切,两个旋片在转子槽内滑动,并且和定子的内壁相接触等工作原理,为此我们在使用的时候要注意保养,根据自己行业进行选择,选择一个质量好的设备很重要。
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