铬旋转靶材

      广州市尤特新材料有限公司是一家扎根于电子信息材料行业的高新技术企业，以生产信息存储记录材料为起点，顺延产业技术发展的方向，深耕产业技术应用的潜力，经过11年的开拓已发展成为拥有电子浆料、金属薄膜靶材信息存储记录材料、工程塑料、触控显示材料、石墨烯材料、UV化工材料这七大核心技术为中心的产业集团。

         在芯片生产过程中，有一道重要的工序叫做化学机械抛光（英语：Chemical-Mechanical Polishing），茂名旋转靶材，又称化学机械平坦化（英语：Chemical-Mechanical Planarization，缩写 CMP），而当中要用到一种化学添加剂，也就是研磨液。

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     溅射靶材的温度取决于能量的高低，举例：-1气压，功率5KW，偏压0。靶材表面温度为200度左右，旋转靶材定做，基片温度不会高于100度~如果上升到10Kw，铬旋转靶材，靶材表面温度会接近400度，基片会达到150度左右，我说的基片距离靶材有10厘米左右~

此时热量为热辐射传热，离靶材远的地方辐射相对小，温度就低一点~

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