铟靶材

对溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且沉积在基片表面，经历成膜过程，形成薄膜。近年来，由于智能手机、平板电脑等移动终端的流行，市场对ITO靶材的需求量大增，而ITO靶材主要原材料是稀有金属铟，该领域对铟的消费量占到了铟产量的75%左右。目前，铟的保有量只有1.6万吨，中国的铟保有量约1万吨，溅射靶材厂家，占比达到62%。接下来是秘鲁的580吨、加拿大的560吨、美国的450吨，分别占保有量的3.6%、3.5%、2.7%，比较可知，铟是中国在储量上占据绝1对优势的资源。虽然国内铟储存量丰富，但ITO靶材技术一直无法取得突破。我国成为为日韩提供铟金属原材料供应国。

为在ITO靶材方面取得技术突破。2012年科技部在北京组织召开了“十一五”科技支撑计划“铟、铝深加工关键技术攻关与产品开发”重点项目验收会上，烧结法制备ITO靶材新技术，生产出超高密度高性能ITO靶材，建设了一条年产10万吨的试验生产线，打破了国外技术垄断。当年，洛阳725所高世代TFT-LCD和PDP用ITO靶材技术研发及产业化项目列入战略性新兴产业发展专项资金计划，给予4000万元补助资金支持。725所在已具备完全自主知识产1权的高纯高活性纳米ITO粉末制备、湿法成型、氧压烧结和物理1气化回收等核心技术基础上，实现高端ITO靶材的国内自主供应，对于突破我国平板显示产业技术瓶颈。改变铟较低的价格出口再较高的价格买回制品的被动局面，打破国外垄断具有重要意义。