高纯银靶材厂家

      溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁控溅射镀膜是一种新型的物理-气相镀膜方式，就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，溅射靶材采购，陶瓷，硼化物等。

       对于ITO靶材，我国一直处于技术弱势地位，国际高端ITO靶材由JX日矿日石金属、日本三井矿业、日本东曹、韩国三星、德国及美国的少数几家公司所垄断。其中又以日本日矿和三井两家几乎占据了高端TFT-LCD市场用ITO靶材的全部份额和大部分的触摸屏面板市场，每家年供应量据称达到600吨以上。近期，在广西柳州举办的业界高端镀膜工艺研讨会上，与会人员一致认为，国内各厂商在靶材的研发过程中出现各种问题是必然的，也不可否认国内在这方面的技术远远落后于日本和韩国。目前，国内ITO溅射靶材主要应用于中低端产品商，而高端ITO靶材产品则从日韩进口。本土ITO靶材厂商约占国内市场30%的份额，国内大部分的ITO靶材市场则由日韩瓜分。