FRD-012四管扩散炉

四管扩散炉主要满足半导体电力电子器件、大功率集成电路等行业，对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统组成。选用工控机微控方式或程控方式操作。

产品特点：

◆采用高强度的CPU处理器控温CPU43P和CJI系列PLC，运行可靠控制精度高，具有自动分布功能 

◆采用进口PLC进行上下传递参数，传递速度快，运行稳定 

◆ 显示部分采用工业控制机，操作方便，可靠，显示各参数直观，方便查看实时数据曲线和历史曲线 

◆ 在1280℃单点稳定性±0.5℃ 

主要技术指标：         

◆ 工作温度：600—1290℃ 

◆ 恒温区长度：1000mm 

◆ 炉管口径：可供4”、5”、6”片 

◆ 气路系统：三路主管道HLC、O2、N2，质量流量计控 制，所有管道配置全部采用进口VCR接头 

◆工作台：采用层流水平净化，净化等级：100级， 

◆ 台面全部采用不锈钢