铽靶材高纯铽99.999铽靶材厂家

北京环球金鑫国际科技有限公司专业从事光学镀膜材料、磁控溅射靶材、高纯材料、高纯粉末的研发生产和销售。产品广泛应用于军工，航空航天，新能源，LED，电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能行业，磁存储行业，表面工程（装饰&工具）等领域。
    环球金鑫自主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑，具有良好的导电性，溅射时工作电流稳定，高阻靶材的底板焊接牢固适用，采用该靶材制作的电阻器，具有阻值集中、稳定性好，有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能，电阻温度系数小等特点。其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的：分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法，产品均具有纯度高，微观组织优异及利用率高等特点，靶型有：平面矩形，管形，圆盘形，环形，片状，粉状等，规格和成分还可以根据用户的具体要求来定做。

产品简介：

一种金属元素，属稀土金属，无色结晶的粉末，有毒。它的化合物可做杀虫剂，亦用来治疗皮肤病。

合成方法：

由钙热还原氟化铽法制备。冶炼设备为真空感应炉，该设备要能调节控制炉温高达1800℃，控温精度±10℃，炉体真空可达10-5Pa。还原剂金属钙用钙粒或钙屑，都应是重蒸馏过的，其氧、氮等杂质含量要低。氟化物钙热直接还原使用能耐氟化物腐蚀并不与稀土金属作用的钽坩埚，由厚度为0.3～0.4mm钽片氩弧焊接而成。还原的保护气氛使用氩气。将过量10%～15%的金属钙屑或钙粒与氟化铽混匀，装在钽坩埚中压实，盖好盖子，然后放入真空感应炉中开始抽真空至10-2Pa后，缓慢加热至400～600℃。在深脱气后充入净化的氩气至6×104Pa，继续升温至800～1000℃，炉料开始明显地发生还原反应。然后将温度升至1750℃并保持10～15min，使金属与渣熔化和彼此充分分层分离，从而获得致密的金属锭。氟化物钙热还原法只能得到工业纯的铽金属。一般铽金属的纯度为95%～98%。为了提高还原产品的纯度，需要使用经干法氟化法制备的较纯的氟化铽(含氧、氮、过渡金属特别是铁少)。还原剂钙使用前需要再于799.93Pa的氦分压下蒸馏提纯，并把提纯过的钙保存在充氦的密封干燥箱内，以避免氧化及吸收空气中水分。还原产品中钙含量一般为0.2%～0.5%，坩埚杂质钽含量约为0.1%～0.5%。

产品用途：

主要化合物有三氧化二铽、二氧化铽、三氟化铽、三氯化铽、四氟化铽和铽(IV)盐等。氟化钙、钨酸钙、钼酸锶中掺杂铽可用于制造固态器件。氧化铽可用作彩色电视机显像管绿色荧光粉的激活剂，并与二氧化锆一起用作燃料电池的晶体稳定剂。硼酸钠铽可用作激光材料。磷光体活化剂。

北京环球金鑫国际科技有限公司主要经营产品：
一 高纯单质金属（纯度：3N-6N）
规格：粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）
金靶Au，银靶Ag，铝靶Ag，硼靶B，铋靶Bi，碳靶C，铬靶Cr，铜靶Cu，钴靶Co，镉靶Cd，铈靶Ce，镝靶Dy，铒靶Er，铕靶Eu，铁靶Fe，钆靶Gd，锗靶Ge，铪靶Hf，铟靶In，铱靶Ir，镧靶La，镥靶Lu，镁靶Mg，钼靶Mo，锰靶Mn，铌靶Nb，镍靶Ni，铅靶Pb，钯靶Pd，铂靶Pt，铼靶Re，铑靶Rh，钌靶Ru，锑靶Sb，钪靶Sc，硒靶Se，硅靶Si，钐靶Sm，锡靶Sn，钽靶Ta，铽靶Tb，碲靶Te，钛靶Ti，钒靶V，钇靶Y，镱靶Yb，锌靶Zn，锆靶Zr。
二 高纯合金金属（纯度：3N-6N）
规格：颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）
铝镁合金Al-Mg，铝硅合金Al-Si，铝硅镁合金Al-Si-Mg，铝硅铜合金Al-Si-Cu，铝银合金Al-Ag，铝铜合金Al-Cu，铝铬合金Al-Cr，铝钕合金Al-Nd，铝钪合金Al-Sc，铝硅铜合金Al-Si-Cu，铝钛合金Al-Ti，铝钛硼合金Al-Ti-B，钽铝合金Ta-Al，钴铬合金Co-Cr，钴铁合金Co-Fe，钴镍合金Co-Ni，钴镍铬合金Co-Ni-Cr，钴铁硼合金Co-Fe-B，钐钴合金Sm-Co，铜镓合金Cu-Ga，铜铟合金Cu-In，铜铟镓合金Cu-In-Ga，铜铟镓硒合金Cu-In-Ga-Se，铜钴合金Cu-Co，铜钆合金Cu-Gd，铜锆合金Cu-Zr，铜锡合金Cu-Sn，铜镍合金Cu-Ni，铬硅合金Cr-Si，铬钒合金Cr-V，铁硼合金Fe-B，铁碳合金Fe-C，铁锰合金Fe-Mn，铁钴硼合金Fe-Co-B，硼铁合金B-Fe，铽铁合金Tb-Fe，铪铁合金Hf-Fe，铱锰合金Ir-Mn，铱铼合金Ir-Re，铟锡合金In-Sn，钼铌合金Mo-Nb，钼硅合金Mo-Si，钼铌合金Mo-Nb，镍铬合金Ni-Cr，镍钴合金Ni-Co，镍铜合金Ni-Cu，镍铬铝合金Ni-Cr-Al，镍铬铝硅合金Ni-Cr-Al-Si，镍铬硅合金Ni-Cr-Si，镍铁合金Ni-Fe，镍钒合金Ni-V，镍铝合金Ni-Al，镍铌钛合金Ni-Nb-Ti，镍锆合金Ni-Z，r钛铝合金Ti-Al，钛铬合金Ti-Cr，钛硅合金Ti-Si，钛镍合金Ti-Ni，钛锆合金Ti-Zr，钒铝合金V-Al，钒铝铁合金V-Al-Fe，钨铼合金W-Re，钨钛合金W-Ti，锆铝合金Zr-Al，锆铁合金Zr-Fe，锆镍合金Zr-Ni，锆铌合金Zr-Nb，锆钛合金Zr-Ti，锆钇合金Zr-Y，铌锆合金Nb-Zr，锌铝合金Zn-Al，锌镁合金Zn-Mg，铈钆合金Ce-Gd。
三 陶瓷溅射靶材、高纯材料、镀膜材料 （纯度：3N-6N）
规格：粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）
氧化锌（ZnO），氧化锌铝（AZO），IZO（In2O3+ZnO），IGZO（In2O3+Ga2O3+ZnO），GZO（Ga2O3+ZnO），ITO（In2O3+SnO2），氧化铌（NbOx），氧化铝（Al2O3），，氧化镁（MgO），氧化硅（SiO），氧化镍（NiO），氧化铬（Cr2O3），氧化钇（Y2O3），氧化镧（La2O3），氧化铈（CeO2），氧化铋（Bi2O3），氧化铁（Fe2O3），二氧化硅（SiO2），二氧化钛（TiO2），二氧化锡（SnO2），二氧化锆（ZrO2），二氧化铪（HfO2），二硼化镁（MgB2），二硼化锆（ZrB2），二硼化钛（TiB2）。硫化钨（WS2），硫化钼（MoS），硫化镉（CdS），硫化锌（ZnS），碳化硅（SiC），碳化硼（B4C），碳化钛（TiC），碳化钨（WC），氮化硅（SiN），氮化硼（BN），氮化铝（AlN），氮化钛（Ti3N4），硒化锌（ZnSe），硒化铟（In2Se3），硒化铜（Cu2Se），氟化镁（MgF?2），氟化钠（NaF），氟化镧（LaF3），钛酸镨（PrTiO3），钛酸锶（SrTiO3），钛酸钡（BaTiO3），锆钛酸铅（PbZrTiO3）。