厂商 ：北京环球金鑫国际科技有限公司
北京 北京- 主营产品：
- 高纯稀土材料
- 高纯有色金属材料
- 贵金属
北京环球金鑫国际科技有限公司专业从事光学镀膜材料、磁控溅射靶材、高纯材料、高纯粉末的研发生产和销售。产品广泛应用于军工，航空航天，新能源，LED，电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能行业，磁存储行业，表面工程（装饰&工具）等领域。
环球金鑫自主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑，具有良好的导电性，溅射时工作电流稳定，高阻靶材的底板焊接牢固适用，采用该靶材制作的电阻器，具有阻值集中、稳定性好，有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能，电阻温度系数小等特点。其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的：分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法，产品均具有纯度高，微观组织优异及利用率高等特点，靶型有：平面矩形，管形，圆盘形，环形，片状，粉状等，规格和成分还可以根据用户的具体要求来定做。
基本信息：
中文名称:镝
英文名称:Dysprosium atomic absorption standard solution
中文别名:镝棒
英文别名:DysprosiumpowderN; DysprosiumchipsNREOcamm; DysprosiumingotNREO; DysprosiumfoilNREOmmthickcagxmm; Dysprosium foil; Dysprosium
CAS号:7429-91-6
分子式:Dy
分子量:162.5
合成方法：
中间合金法。中间合金法适用于制备熔点高、沸点低的重稀土金属，如金属镝、镥等。
由于在炉料中添加了熔点低、蒸气压高的合金化组元金属镁和氯化钙造渣剂，因而降低了稀土金属和氟化钙渣的熔点。显著降低了钙热还原的温度，只需950～1100℃。由于还原温度较低，减少了稀土金属对坩埚材料的腐蚀，故可用钛材坩埚代替钽材坩埚。
中间合金法分两个工艺步骤：第一步是还原制备稀土镁合金；第二步是真空蒸馏除去合金中的镁和钙，得到海绵状稀土金属。用该法还原制备金属镝时，镁和氯化钙配料分别按原子比Dy∶Mg=1∶1,CaCl2∶CaF2(质量分数)=52∶48，还原剂钙过量10%～25%。还原温度为970℃。还原是在氩气氛中进行。还原设备见图III-13
图III-13 金属镝的还原装置图
图III-13中反应罐是由不锈钢制成的，可接真空系统和氩气。外部加热炉可用硅碳棒电阻炉。将块状的钙和镁装入还原坩埚中，CaCl2和DyF3装入加料器内，安装好设备。连接真空系统，抽空到1～0.1Pa后将还原设备放到加热炉内，继续抽真空。加热至750℃后充入氩气，继续升温至900℃。在金属镁、钙全部熔化后把DyF3和CaCl2加入反应坩埚中，并将温度升至950℃，保温20～30min，以使炉料充分反应。反应完成后，提出反应罐使其与水平线成30o角，并快速冷却。然后取出坩埚，倒出炉料得到DyMg合金。金属镁、钙的蒸气压明显高于金属镝的蒸气压，因此在镝镁合金熔点以下于高真空炉中进行蒸馏可除去镁和钙，而得到海绵状镝金属。蒸馏前将合金破碎成5～10mm的小块，置于蒸馏罐内(见图III-14)，进行真空蒸馏。蒸馏过程中真空度要保持不低于6.5×10-3Pa。并逐渐升温至900℃并保温数小时。随着合金中镁含量不断减少，合金的熔点也逐步升高，此时可以提高
中间合金法制备
图III-14 蒸馏设备示意图
1—坩埚底垫；2—稀土镁合金；3—坩埚；
4—不锈钢衬套；5—挡板；6—硅碳棒电炉；
7—不锈钢蒸馏罐；8—热电偶
蒸馏温度至970℃并保温约20h，然后将蒸馏罐冷至室温，取出金属。金属的回收率可达94%。镝的纯度可达99.7%。
主要用途：
用于生产荧光粉、珐琅和釉，也用于制造红外线发生器材和激光器材、以及原子能工业。
一 高纯单质金属（纯度：3N-6N）
规格：粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）
金靶Au，银靶Ag，铝靶Ag，硼靶B，铋靶Bi，碳靶C，铬靶Cr，铜靶Cu，钴靶Co，镉靶Cd，铈靶Ce，镝靶Dy，铒靶Er，铕靶Eu，铁靶Fe，钆靶Gd，锗靶Ge，铪靶Hf，铟靶In，铱靶Ir，镧靶La，镥靶Lu，镁靶Mg，钼靶Mo，锰靶Mn，铌靶Nb，镍靶Ni，铅靶Pb，钯靶Pd，铂靶Pt，铼靶Re，铑靶Rh，钌靶Ru，锑靶Sb，钪靶Sc，硒靶Se，硅靶Si，钐靶Sm，锡靶Sn，钽靶Ta，铽靶Tb，碲靶Te，钛靶Ti，钒靶V，钇靶Y，镱靶Yb，锌靶Zn，锆靶Zr。
二 高纯合金金属（纯度：3N-6N）
规格：颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）
铝镁合金Al-Mg，铝硅合金Al-Si，铝硅镁合金Al-Si-Mg，铝硅铜合金Al-Si-Cu，铝银合金Al-Ag，铝铜合金Al-Cu，铝铬合金Al-Cr，铝钕合金Al-Nd，铝钪合金Al-Sc，铝硅铜合金Al-Si-Cu，铝钛合金Al-Ti，铝钛硼合金Al-Ti-B，钽铝合金Ta-Al，钴铬合金Co-Cr，钴铁合金Co-Fe，钴镍合金Co-Ni，钴镍铬合金Co-Ni-Cr，钴铁硼合金Co-Fe-B，钐钴合金Sm-Co，铜镓合金Cu-Ga，铜铟合金Cu-In，铜铟镓合金Cu-In-Ga，铜铟镓硒合金Cu-In-Ga-Se，铜钴合金Cu-Co，铜钆合金Cu-Gd，铜锆合金Cu-Zr，铜锡合金Cu-Sn，铜镍合金Cu-Ni，铬硅合金Cr-Si，铬钒合金Cr-V，铁硼合金Fe-B，铁碳合金Fe-C，铁锰合金Fe-Mn，铁钴硼合金Fe-Co-B，硼铁合金B-Fe，铽铁合金Tb-Fe，铪铁合金Hf-Fe，铱锰合金Ir-Mn，铱铼合金Ir-Re，铟锡合金In-Sn，钼铌合金Mo-Nb，钼硅合金Mo-Si，钼铌合金Mo-Nb，镍铬合金Ni-Cr，镍钴合金Ni-Co，镍铜合金Ni-Cu，镍铬铝合金Ni-Cr-Al，镍铬铝硅合金Ni-Cr-Al-Si，镍铬硅合金Ni-Cr-Si，镍铁合金Ni-Fe，镍钒合金Ni-V，镍铝合金Ni-Al，镍铌钛合金Ni-Nb-Ti，镍锆合金Ni-Z，r钛铝合金Ti-Al，钛铬合金Ti-Cr，钛硅合金Ti-Si，钛镍合金Ti-Ni，钛锆合金Ti-Zr，钒铝合金V-Al，钒铝铁合金V-Al-Fe，钨铼合金W-Re，钨钛合金W-Ti，锆铝合金Zr-Al，锆铁合金Zr-Fe，锆镍合金Zr-Ni，锆铌合金Zr-Nb，锆钛合金Zr-Ti，锆钇合金Zr-Y，铌锆合金Nb-Zr，锌铝合金Zn-Al，锌镁合金Zn-Mg，铈钆合金Ce-Gd。
三 陶瓷溅射靶材、高纯材料、镀膜材料 （纯度：3N-6N）
规格：粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材（长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm）/圆柱形靶材（直径小于400mm,厚度大于1mm）
氧化锌（ZnO），氧化锌铝（AZO），IZO（In2O3+ZnO），IGZO（In2O3+Ga2O3+ZnO），GZO（Ga2O3+ZnO），ITO（In2O3+SnO2），氧化铌（NbOx），氧化铝（Al2O3），，氧化镁（MgO），氧化硅（SiO），氧化镍（NiO），氧化铬（Cr2O3），氧化钇（Y2O3），氧化镧（La2O3），氧化铈（CeO2），氧化铋（Bi2O3），氧化铁（Fe2O3），二氧化硅（SiO2），二氧化钛（TiO2），二氧化锡（SnO2），二氧化锆（ZrO2），二氧化铪（HfO2），二硼化镁（MgB2），二硼化锆（ZrB2），二硼化钛（TiB2）。硫化钨（WS2），硫化钼（MoS），硫化镉（CdS），硫化锌（ZnS），碳化硅（SiC），碳化硼（B4C），碳化钛（TiC），碳化钨（WC），氮化硅（SiN），氮化硼（BN），氮化铝（AlN），氮化钛（Ti3N4），硒化锌（ZnSe），硒化铟（In2Se3），硒化铜（Cu2Se），氟化镁（MgF?2），氟化钠（NaF），氟化镧（LaF3），钛酸镨（PrTiO3），钛酸锶（SrTiO3），钛酸钡（BaTiO3），锆钛酸铅（PbZrTiO3）。
