镉靶材高纯镉99.999镉靶材厂家

厂商 :北京环球金鑫国际科技有限公司

北京 北京
  • 主营产品:
  • 高纯稀土材料
  • 高纯有色金属材料
  • 贵金属
联系电话 :15652065551
商品详细描述

北京环球金鑫国际科技有限公司专业从事光学镀膜材料、磁控溅射靶材、高纯材料、高纯粉末的研发生产和销售。产品广泛应用于军工,航空航天,新能源,LED,电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能行业,磁存储行业,表面工程(装饰&工具)等领域。
   
环球金鑫自主研发的真空溅射靶材、光学镀膜材料广泛应用于装饰镀膜、工具镀膜、光学镀膜及镀膜玻璃工业与平板显视行业。生产的溅射靶材成分设计合理、表面平整光滑,具有良好的导电性,溅射时工作电流稳定,高阻靶材的底板焊接牢固适用,采用该靶材制作的电阻器,具有阻值集中、稳定性好,有良好的耐热、耐磨和抗氧化性能,电阻温度系数小等特点。其靶材的制备都是根据其材料特性来加工的:分热压烧结工艺法和真空熔铸工艺法,产品均具有纯度高,微观组织优异及利用率高等特点,靶型有:平面矩形,管形,圆盘形,环形,片状,粉状等,规格和成分还可以根据用户的具体要求来定做。

镉(gé),CADMIUM,源自kadmia,“泥土”的意思,1817年发现。和锌一同存在于自然界中。它是一种吸收中子的优良金属,制成棒条可在原子反应炉内减缓核子连锁反应速率,而且在锌-镉电池中颇为有用。它的鲜明的硫化物所制成的镉黄颜料,广受艺术家的欢迎。

合成方法:

1.以工业镉为原料,用电解法提纯。将镉棒放入硫酸镉(分析纯)饱和溶液中,作为阳极,用铂板作为阴极,溶液用少量的硫酸酸化,控制两级间电压4-5V,电流密度0.01A每平方厘米,搅拌下进行点解。点解过程中要不断取出阴极析出的镉,先经水洗,然后将其熔化,倒在干净的钢面上静置固化即可。若要知趣颗粒镉,则在熔化后滴入水中。以金属镉为原料,经减压蒸馏精制,制得高纯镉成品。2.将氧化镉置于石英玻璃管内,在350~400℃时通入氢气,可制得灰色粉末状镉。然后将温度升高至550~600℃或更高,使镉蒸发并冷凝在玻管的冷端,可得滴状镉。3.将两块直径为4.5cm的铂片置于直径为7cm的圆柱形电解槽内,下面一块作阴极,上面一块作阳极,两极间距离为5cm,以H2SO4酸化的CdSO4溶液作为电解液,在电流密度0.1~0.3A/cm2条件下进行电解,在阴极上得到海绵状金属镉。在电解过程中,镉在阴极上沉积所形成的银白色粉末晶体会很快充满电解槽,为防止电极间短路,需用玻璃棒不断地压紧粉末状的镉。当发现阴极上有氢气析出时,需补加CdSO4。4.将99%的工业镉经过两次熔融之后, 加到电导水中制成粒状, 然后在升华器内于490~500℃下进行真空升华。恒温3h后停止加热, 继续抽真空, 当温度降到100℃以下, 即可得漂亮发光的高纯镉, 纯度可达99.99%~99.999%。

主要用途:

(1)用于制镉盐、镉蒸气灯、烟幕弹、镉汞剂、颜料、合金、电镀镉、焊药、标准电池、冶金去氧剂等。为半导体用高纯材料,用于制备高纯镉盐,用作高纯试剂。(2)用作还原剂,也用于镉盐及合金的制造。(3)用于半导体、高纯合金、电池、焊料、核反应堆的控制棒以及用于高纯试剂及高纯镉盐的制备。半导体用高纯材料,用于制备高纯镉盐,用作高纯试剂。(4)制造镉气灯、电极、光电池及太阳紫外线计光器原材料。

高纯单质金属(纯度:3N-6N
规格:粉末/颗粒///圆片/方形靶材(长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm/圆柱形靶材(直径小于400mm,厚度大于1mm
金靶Au,银靶Ag,铝靶Ag,硼靶B,铋靶Bi,碳靶C,铬靶Cr,铜靶Cu,钴靶Co,镉靶Cd,铈靶Ce,镝靶Dy,铒靶Er,铕靶Eu,铁靶Fe,钆靶Gd,锗靶Ge,铪靶Hf,铟靶In,铱靶Ir,镧靶La,镥靶Lu,镁靶Mg,钼靶Mo,锰靶Mn,铌靶Nb,镍靶Ni,铅靶Pb,钯靶Pd,铂靶Pt,铼靶Re,铑靶Rh,钌靶Ru,锑靶Sb,钪靶Sc,硒靶Se,硅靶Si,钐靶Sm,锡靶Sn,钽靶Ta,铽靶Tb,碲靶Te,钛靶Ti,钒靶V,钇靶Y,镱靶Yb,锌靶Zn,锆靶Zr。
二 高纯合金金属(纯度:3N-6N)
规格:颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材(长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm)/圆柱形靶材(直径小于400mm,厚度大于1mm)
铝镁合金Al-Mg,铝硅合金Al-Si,铝硅镁合金Al-Si-Mg,铝硅铜合金Al-Si-Cu,铝银合金Al-Ag,铝铜合金Al-Cu,铝铬合金Al-Cr,铝钕合金Al-Nd,铝钪合金Al-Sc,铝硅铜合金Al-Si-Cu,铝钛合金Al-Ti,铝钛硼合金Al-Ti-B,钽铝合金Ta-Al,钴铬合金Co-Cr,钴铁合金Co-Fe,钴镍合金Co-Ni,钴镍铬合金Co-Ni-Cr,钴铁硼合金Co-Fe-B,钐钴合金Sm-Co,铜镓合金Cu-Ga,铜铟合金Cu-In,铜铟镓合金Cu-In-Ga,铜铟镓硒合金Cu-In-Ga-Se,铜钴合金Cu-Co,铜钆合金Cu-Gd,铜锆合金Cu-Zr,铜锡合金Cu-Sn,铜镍合金Cu-Ni,铬硅合金Cr-Si,铬钒合金Cr-V,铁硼合金Fe-B,铁碳合金Fe-C,铁锰合金Fe-Mn,铁钴硼合金Fe-Co-B,硼铁合金B-Fe,铽铁合金Tb-Fe,铪铁合金Hf-Fe,铱锰合金Ir-Mn,铱铼合金Ir-Re,铟锡合金In-Sn,钼铌合金Mo-Nb,钼硅合金Mo-Si,钼铌合金Mo-Nb,镍铬合金Ni-Cr,镍钴合金Ni-Co,镍铜合金Ni-Cu,镍铬铝合金Ni-Cr-Al,镍铬铝硅合金Ni-Cr-Al-Si,镍铬硅合金Ni-Cr-Si,镍铁合金Ni-Fe,镍钒合金Ni-V,镍铝合金Ni-Al,镍铌钛合金Ni-Nb-Ti,镍锆合金Ni-Z,r钛铝合金Ti-Al,钛铬合金Ti-Cr,钛硅合金Ti-Si,钛镍合金Ti-Ni,钛锆合金Ti-Zr,钒铝合金V-Al,钒铝铁合金V-Al-Fe,钨铼合金W-Re,钨钛合金W-Ti,锆铝合金Zr-Al,锆铁合金Zr-Fe,锆镍合金Zr-Ni,锆铌合金Zr-Nb,锆钛合金Zr-Ti,锆钇合金Zr-Y,铌锆合金Nb-Zr,锌铝合金Zn-Al,锌镁合金Zn-Mg,铈钆合金Ce-Gd。
三 陶瓷溅射靶材、高纯材料、镀膜材料 (纯度:3N-6N)
规格:粉末/颗粒/锭/丝/圆片/方形靶材(长度小于1000mm.宽度小于320mm,厚度大于1mm)/圆柱形靶材(直径小于400mm,厚度大于1mm)
氧化锌(ZnO),氧化锌铝(AZO),IZO(In2O3+ZnO),IGZO(In2O3+Ga2O3+ZnO),GZO(Ga2O3+ZnO),ITO(In2O3+SnO2),氧化铌(NbOx),氧化铝(Al2O3),,氧化镁(MgO),氧化硅(SiO),氧化镍(NiO),氧化铬(Cr2O3),氧化钇(Y2O3),氧化镧(La2O3),氧化铈(CeO2),氧化铋(Bi2O3),氧化铁(Fe2O3),二氧化硅(SiO2),二氧化钛(TiO2),二氧化锡(SnO2),二氧化锆(ZrO2),二氧化铪(HfO2),二硼化镁(MgB2),二硼化锆(ZrB2),二硼化钛(TiB2)。硫化钨(WS2),硫化钼(MoS),硫化镉(CdS),硫化锌(ZnS),碳化硅(SiC),碳化硼(B4C),碳化钛(TiC),碳化钨(WC),氮化硅(SiN),氮化硼(BN),氮化铝(AlN),氮化钛(Ti3N4),硒化锌(ZnSe),硒化铟(In2Se3),硒化铜(Cu2Se),氟化镁(MgF?2),氟化钠(NaF),氟化镧(LaF3),钛酸镨(PrTiO3),钛酸锶(SrTiO3),钛酸钡(BaTiO3),锆钛酸铅(PbZrTiO3)。


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