厂商 ：北京冠金利新材料有限公司
北京 北京- 主营产品：
- 高纯陶瓷靶材
- 高纯镀膜材料
- 高纯金属靶材
钛铝合金靶
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品名 |
分子式 |
规格 |
纯度(%) |
备注 |
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钛铝合金 |
Ti-AI |
颗粒，靶材，块状 |
99.9，99.99 |
热等静压，真空熔炼 |
钛铝合金在钛原子含量大于等于50%时可以用真空熔铸的方式生产，当钛含量减少铝含量相对增加时就只能通过粉末冶金的方法来生产才能达到靶材的要求。钛原子大于等于80%时的钛铝合金还可以锻造，可以轧制。钛铝合金在真空镀膜行业也应用较广，可以做成一定比例的合金靶材，作磁控溅射镀膜的原材料。
在做真空镀膜靶材时钛铝合金有多种成分比例，常用的有钛铝原子比(at%)90:10、80：:20、70:30、50:50、30:70、20:80、10:90
如何选择高质量的靶材：
镀制不同膜层须选用不同成分的靶材，靶材的质量直接关系到膜层理化指标的优劣以及颜色的纯正。在镀膜过程中，理想的靶材将使你大幅度提高镀膜成品率和工艺重复性，因此在选用靶材时，必须对其成份，纯度，规格以及加工的外观质量严格要求。我公司提供的钛靶，铬靶和钛铝靶在使用过程中不起皮；不开裂；不鼓包；不起灰，颜色纯正，成份均匀，加工精细，是保证镀膜质量的前提条件。
靶材规格参数：
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常用靶材种类 |
成份及纯度 |
规格型号 |
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钛铝(TiAl) |
原子比67：33 |
?100×40mm |
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钛铝(TiAl) |
原子比50：50 |
?100×40mm |
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钛铝(TiAl) |
原子比40：60 |
?100×40mm |
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钛铝(TiAl) |
原子比33：67 |
?100×40mm |
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钛铝(TiAl) |
原子比30：70 |
?100×40mm |
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钛铝(TiAl) |
原子比25：75 |
?100×40mm |
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钛铝硅(TiAlSi) |
原子比30：60：10 |
?100×40mm |
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铬铝（CrAl） |
原子比50：50 |
?100×40mm |
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铬铝（CrAl） |
原子比40：60 |
?100×40mm |
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铬铝（CrAl） |
原子比33：67 |
?100×40mm |
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铬铝（CrAl） |
原子比30：70 |
?100×40mm |
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铬铝（CrAl） |
原子比25：75 |
?100×40mm |
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铬铝硅（CrAlSi） |
原子比30：60：10 |
?100×40mm |
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其它 |
板状管状等 |
定制 |
