氧化铪靶材

厂商 :北京冠金利新材料有限公司

北京 北京
  • 主营产品:
  • 高纯陶瓷靶材
  • 高纯镀膜材料
  • 高纯金属靶材
联系电话 :13501344331
商品详细描述

氧化铪靶

化学符号:HfO2                       

纯度:99.99%

熔点:2812℃                     

密度:9.7g/cm?

规格:Φ10mm或颗粒             

折射率:n=2                       

透明波段:0.2~9Ц                    

外观:白色

性能:适于电子枪蒸发,成膜致密稳定。紫外波段的优良材料。

价格:面议

最少起订量:1kg,量大优惠

供货能力:同批次,同材质,持续可靠供应;100kg/

交货期:单片材料1周内发货,批量材料15-20天内发货(工作日)

制作工艺:真空磁悬浮熔炼 ,浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工

适用仪器:各类型号磁控溅射设备等

产品优点:1、质量可靠,价格优惠2、真空熔炼,设备提纯,纯度高,杂质少3.轧制致密,氧化少,成型可塑4、相对致密度高,晶粒均匀等轴,一致性高

产品附件:正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发票

包装方式:真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装

运输方式:国内快递承运(顺丰,申通,EMS,德邦

常规靶材生产工艺为:铸锭(感应电溶解电子束熔炼法连续铸造)→→成型(锻造→热轧或

冷轧→拉伸)→→热处理(均质化,再烧结)→→精密机械加工(切削,铣,车,磨,刨)

→→与背板结合(软焊,扩散焊)→→检测(超声波,X光射线探伤)→→包装运输


薄膜材料是指通过对其进行热、电子枪蒸发或磁控溅射得到薄膜的一种功能材料。主要产品应用于半导体制造、磁记录、平面显示和太阳能等产业领域,以下产品我们能提供的常规规格为1mm-10mm颗粒,压片或者粉末,或者各种规格靶材。

名称

化学符号

熔点/℃

蒸发温度/

蒸发方法

密度/g/cm3

折射率  对应波长/μm

透明区/μm

膜结构

机械化学性

备注

HfO2

氧化铪

氧气中电子束或电阻加热反应蒸发

2.150       0.25

>0.625

十分硬耐潮

为减少热分解,电子束束斑要大;慢速蒸发使负非均匀性增加

2.050       0.289

1.950       0.55

1.900       0.625

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