FPD湿法刻蚀清洗机

湿法刻蚀不同于干法刻蚀。 传统湿法刻蚀 把硅片浸泡在一定的化学试剂或试剂溶液中，使没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜表面与试剂发生化学反应而被除去 例如,用一种含有氢氟酸的溶液刻蚀二氧化硅薄膜，用磷酸刻蚀铝薄膜等。这种在液态环境中进行刻蚀的工艺称为“湿法”工艺，其优点是操作简便、对设备要求低、易于实现大批量生产，并且刻蚀的选择性也好。但是，化学反应的各向异性较差，横向钻蚀使所得的刻蚀剖面呈圆弧形（见图 ）。这不仅使图形剖面发生变化，而且当稍有过刻蚀时剖面会产生如图 中的虚线，致使薄膜上图形的线宽比原抗蚀剂膜上形成的线宽小2 ,并且 随过刻蚀时间迅速增大。这使精确控制图形变得困难。湿法刻蚀的另一问题，是抗蚀剂在溶液中，特别在较高温度的溶液中易受破坏而使掩蔽失效，因而对于那些只能在这种条件下刻蚀的薄膜必须采用更为复杂的掩蔽方案。 苏州晶洲装备科技集研发、设计、制造、销售为一体，拥有多种高科技清洗设备。如FPD湿法刻蚀清洗机 买FPD湿法刻蚀清洗机到苏州。 联系人：陈卿 电话：86-0512-52992666 邮箱：szjz123@126.com 地 址：江苏省常熟市辛庄镇光伏产业园光华环路32号