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1、数字化镁合金/微弧氧化电源可靠性研究
微弧氧化又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，是一种新型的表面处理方法。利用此技术形成的表面膜层具有与基体的结合力强、硬度高、耐磨性、耐蚀性、抗热震性高、膜层电绝缘性好、击穿电压高等优异的物理化学性能。在材料表面处理领域中，微弧氧化技术正成为一个研究的热点。应用于微弧氧化技术的电源称为微弧氧化电源。电源是微弧氧化技术制备陶瓷膜的关键设备，目前用微弧氧化方法处理金属表面时，所用的电源大多为直流电源或单向脉冲式电源，本系统是在消除现有电源不足的基础上而设计的基于DSP控制的双端脉冲式变压变频微弧氧化电源。该电源是一种正、负脉冲幅度、频率、占空比以及脉冲个数分别连续可调的双极性大功率电源。通过对工作脉冲参数的优化选择，能确................共45页
2、铝合金表面微弧氧化陶瓷膜制备工艺设计
在很多特殊的工业领域，为满足某些特殊的性能需求，必顺用到铝及其合金，但铝及其合金的表面硬度低、耐腐蚀性与耐磨性差、抗热震性差，制约了铝合金的应用。通过表面处理工艺进行处理，可以提高铝合金的综合性能。微弧氧化工艺是在阳极氧化工艺基础上发展起来的新兴表面处理技术，微弧氧化膜层具有硬度高，绝缘性与耐腐蚀性和耐磨性好，高抗热震性，氧化膜与基体结合力强等优点，极大地提高了铝合金的应用范围。微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)或阳极火花沉积(ASD)，还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。是通过控制调整电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛及其合金表面依靠微等离子体放电产生的瞬时高温高压作用，经过化学、电化学、热化学、等离子化................共53页
3、具有放电回路镁合金微弧氧化脉冲电源
微弧氧化是在阳极氧化工艺的基础上发展起来一种表面改性新技术，它利用微区电弧放电在金属表面生成陶瓷状氧化膜。本文根据微弧氧化处理过程中的工艺要求和现象，以自行研制的多功能脉冲微弧氧化电源为试验平台，通过对膜层生长过程的探讨了镁合金微弧氧化膜层形成机理，提出微区电弧放电模型；根据对系统负载特性的分析提出微弧氧化对电源的要求，并据此设计了一种新型的带放电回路的微弧氧化脉冲电源。研究表明，微弧氧化过程主要分为阳极氧化、微弧放电、大弧放电三个阶段。微弧氧化膜层是由一系列离散的微区电弧放电产生的金属氧化物累积形成，瞬间完成的微小区域内的电弧放电，使生成的氧化物经历骤热骤冷过程，从而可获得非平衡组织结构的金属氧化物膜层。微区电弧放电................共43页
4、镁合金微弧氧化中局部烧蚀现象与解决方案研究
微弧氧化是一种新兴起的材料表面处理方法，是在阳极氧化的基础上发展起来的一项高新技术。其原理是通过电参数和电解液的匹配调整，在阳极表面产生微区弧光放电原位生长出一层陶瓷膜。在镁合金微弧氧化过程中存在一种气体持续燃烧现象，一旦这种局部烧蚀现象持续发生将会烧蚀镁合金基体，造成处理工件报废。这成为限制镁合金应用的最关键性问题。本文以镁合金AZ91D为研究材料，观察了镁合金试样和镁合金摩托车轮毂在进行微弧氧化处理过程中出现的局部烧蚀现象，通过大量不同工艺条件下的试验和观察，进行了镁合金微弧氧化溶液和电参数优化。研究表明：当电解液配方为：Na2SiO313g/L、KF12g/L、NaOH4g/L，脉冲频率700Hz，占空比20％时，能够有效的抑制局部烧蚀现象的................共58页
5、铸造铝合金微弧氧化工艺优化
使用自行研制的MAO-100型微弧氧化设备，采用Si、Cu元素含量各不相同的LY12、ZL104、ZL108、YL112铝合金为基材，研究分析了基材中Si、Cu元素含量以及电解液种类和成分对铸造铝合金微弧氧化工艺过程和微弧氧化陶瓷层的影响；采用对比试验的方法，调整电解液组分及浓度，对含有Si、Cu元素的铸造铝合金进行微弧氧化处理，以起弧早、提高膜层生长速率、降低电流密度为研究目标，优化电解液，开发降低铸造铝合金微弧氧化能源消耗的电解液；使用X射线衍射仪(XRD)分析含有Si、Cu元素的铸造铝合金在不同电解液中微弧氧化陶瓷层的相成分及其分布规律，使用扫描电子显微镜(SEM)观察陶瓷层的微观形貌特征。研究结果表明：基材中Si、Cu元素的存在会增加微弧氧化电流密度，同时减缓................共65页
6、稀土镁合金微弧氧化着色技术
通过在不同体系电解液中对SJDM-1稀土镁合金进行微弧氧化，在其表面制备出耐蚀性好的白色陶瓷膜，用正交实验法对硅酸盐和铝酸盐溶液体系的微弧氧化电解液配方进行优化，确定其最佳工艺条件参数。将着色剂加入到基础电解液体系中，利用微弧氧化技术在镁合金表面获得了不同色度的深色陶瓷膜。实验结果表明：膜层色泽的差别主要是由主盐和着色剂的不同所引起，在不同基础电解液中加入相同着色剂所得膜层颜色不同，在相同基础电解液中加入不同着色剂所得膜层颜色也不同。不同的电解液对膜层有不同的着色效果，陶瓷膜的色泽主要是由氧化膜中所形成的金属氧化物及其盐类的结构所决定的。通过条件实验分析了着色剂浓度、频率、占空比、电压对深色陶瓷膜层性................共60页
7、基于DSP镁合金数字化微弧氧化电源研究
镁合金具有密度小、比强度和比刚度高、减震性好、电磁屏蔽性好等特点，因此，镁合金越来越广泛的应用于航空、汽车和电子通讯等工业中。但它的耐蚀性差，严重限制了其应用的发展。常用的化学氧化和阳极氧化等表面处理方法对镁合金有一定的保护作用，但是耐蚀性、外观等方面仍不能满足其应用发展的需要。近年来，人们进行了各种新技术的开发，微弧氧化技术较好的满足了上述要求。微弧氧化又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，是新兴起的一种材料表面处理方法，是在阳极氧化的基础上发展起来的一项高新技术。电源设备是微弧氧化技术制备陶瓷膜的关键设备，目前用微弧氧化方法处理金属表面时，所用的电源大多为直流电源或直流加单向脉冲式电源，本系统是在消除现有电源不足的基础上................共44页
8、镁合金微弧氧化工艺参数与其成膜过程研究
微弧氧化技术是一项从传统阳极氧化基础上发展起来的技术。本课题以AZ91D镁合金为基体材料，对微弧氧化硅酸盐电解液配方及其相适宜的工艺参数进行了系统的实验和研究；运用能谱分析(EDS)分析方法，对微弧氧化陶瓷层的化学组分进行了分析，分析了电解液组分以及工艺参数对镁合金试样的起弧电压、陶瓷层厚度、陶瓷层表面形貌、陶瓷层主要元素分布的影响；讨论了电解液以及工艺参数对陶瓷层的生长过程的影响机理。实验得到AZ91D镁合金微弧氧化电解液最优配方及与之相适宜的工艺参数为：Na2SiO313g/L，NaOH12g/L，KF4g/L，脉冲频率700Hz。在上述条件下微弧氧化10min可获得性能良好的陶瓷层。电解液的组成影响电解液的电导率，从而影响微弧氧化过程中................共55页
9、220KW/微弧氧化双极性脉冲电源研制
镁及其合金的耐蚀性极差。因此，在镁及镁合金的加工、贮存和使用过程中，必须对其表面实施一定的保护措施。微弧氧化技术具有工艺简单、清洁无污染、膜层均匀质硬，材料适应性宽等特点，得到的微弧氧化膜既具备普通阳极氧化膜的性能，又兼有陶瓷喷涂层的优点，是镁合金阳极氧化的重点发展方向。电源参数对微弧氧化处理所得到的氧化膜性能有至关重要的影响，我们可以通过实验，研究电源参数对氧化膜性能的影响。而且，通过采集实验中电源参数和膜层性能参数，可以分析和总结出微弧氧化时的负载特性，确定工业生产要求的电源特性和参数，为微弧氧化机理研究打下基础。因此，研制大功率的、具有各种电源参数连续可调的微弧氧化电源极其成套设备就成为我们需要解决的首要问题................共50页
10、基于ARM的微弧氧化电源控制系统研制
在微弧氧化电源的研究中，驱动控制技术是制约其发展的关键技术之一。在对此技术日益推广和产业化的背景下，控制器和智能终端的研究成为微弧氧化电源的主要热点。对微弧氧化电源控制系统的研究与设计，不但能够改进我们现有设备的利用效率，而且提高了微弧氧化电源的易操作性和智能性，这些对微弧氧化电源的商业化推广和应用有着重要的意义。本文在简单介绍了微弧氧化电源的构成后，阐述了系统的技术要求，依据系统的技术要求，本文给出了系统的总体设计方案；并分别详细叙述了主控制系统和人机界面两部分的设计方案。最后，在考虑系统运行特点和微控制器发展的背景下，以基于ARM7的LPC2119和S3C44BOX芯片作为控制核心、以晶闸管智能模块为控制对象，从硬件和软件两个................共40页
11、大功率微弧氧化的电源
微弧氧化技术是一种新型的表面处理方法。利用此技术形成的表面膜层与基体的结合力强、硬度高，耐磨性、耐蚀性、抗热震性高，膜层电绝缘性好、击穿电压高。在材料表面处理领域中，微弧氧化技术正成为一个研究的热点。应用于微弧氧化技术的电源称为微弧氧化电源，根据微弧氧化技术的原理，人们可以根据实际的需要来设计电源。浙江大学电力电子研究所和公司合作进行一个横向课题，就是研制一个大功率的微弧氧化电源系统。该电源需要可输出双端不对称的高压脉冲电源，且正负两路脉冲的、、及均在一定范围内分别单独可调。电源系统的核心控制芯片为80C196MC单片机，因为单片机技术已经成熟，而且用80C196MC作为控制芯片已经可以满足电源系统的要求，可以降低整个电源系................共48页
12、镁合金微弧氧化工艺与机理研究
开发出一种绿色环保型镁及镁合金微弧氧化电解质溶液配方及其工艺。该配方不含铬、磷及其它对环境和人类健康有毒害的组分，却能显著提高镁及其合金以耐蚀性为主的表面综合防护性能。在此基础之上，针对直流和脉冲两种不同电源模式，系统地研究了各因素对镁微弧氧化成膜过程及所形成的陶瓷层性能的影响，并对微弧氧化成膜机理进行了探讨。通过正交实验设计得出了能制得性能优异的陶瓷层的工艺条件，研究过程中借助扫描电镜观察、X射线衍射等分析方法，观察了陶瓷层的形貌、结构，并测定了陶瓷层的物相；借助动电位扫描、点滴实验、浸泡腐蚀实验、交流阻抗解析、结合力测试等检测手段对不同实验条件下制备的陶瓷层的耐蚀性能、结合性能等性能进行了测试分析。得出................共51页
13、铝合金微弧氧化抗磨减摩涂层制备工艺
采用Na2SiO3系电解液通过一系列的铝合金微弧氧化工艺实验，研究微弧氧化过程中陶瓷氧化膜层的生长规律，不同电解质组成和浓度对陶瓷氧化膜质量的影响。采用扫描电镜(SEM)及x射线衍射相结构分析CXRD)陶瓷氧化膜微观形貌及膜层结构进行分析。采用销盘式磨损试验机研究了不同电解质组成对氧化膜的耐磨性的影响。SEM分析表明，陶瓷氧化膜层由疏松层和致密层构成，致密层约为整个膜层厚度的2／3左右。XRD分析表明陶瓷氧化膜中主要含有γ-Al203和α-A1203晶相成分，还含有少量电解液中添加的特殊功能粒子相。对实验数据及现象分析表明，随着NaSi03浓度升高，膜层厚度会随着增加，而膜层硬度会先增大后减小，膜层的均匀性及手感细腻程度会下降，NaSi03浓度过高后，会使微弧氧化进入弧................共60页
14、不同电参数条件下铝/镁合金微弧氧化陶瓷研究
利用自行研制的MAO系列微弧氧化电源设备，制备了不同电参数条件下的铝、镁合金微弧氧化陶瓷层。通过实验结果的比较和分析，探讨了电流密度、频率、占空比、正负脉冲个数等电参数条件对氧化陶瓷层性能的影响。的主要研究结果如下：1.铝合金陶瓷层的厚度随着电流密度的增大而增加，施加负脉冲可降低陶瓷层的生长厚度和陶瓷层表面粗糙度；当负脉冲个数为2和4时，陶瓷层对电解质的阻挡作用强，可降低腐蚀速度，提高其耐蚀性。2.铝合金微弧氧化陶瓷层主要由α-Al2O3、γ-Al2O3以及δ-Al2O3组成。其中具有紧密结构和高硬度的α-Al2O3相是提高陶瓷层硬度的主要相。3.镁合金陶瓷层生长过程中，在较高频率下制备的陶瓷层表面粗糙度较小；高频下................共62页
15、微弧氧化特种电源器件选择与分析
微弧氧化技术是一种在Al、Mg和Ti等阀金属表面原位生成陶瓷膜的新技术。由于原位生长陶瓷膜层具有与基体结合牢固、硬度高、耐磨性好等优点受到广泛关注，并孕育着巨大的市场前景。电源设备是该技术的关键设备，微弧氧化先后经历了交流电源、直流电源和脉冲电源。普遍认为，脉冲电源能够改善微弧氧化膜的性能，所以设计一台脉冲电源用于实验探索微弧氧化工艺参数非常重要。本介绍了微弧氧化电源的设计过程。本电源在主电路设计方面，采用斩波电路和逆变电路相结合的方式，通过斩波电路调节占空比来调节输出电压的大小，利用逆变电路实现输出波形的控制，这种结构大大简化了电源结构和控制策略，减小了电源的体积。在控制方面，采用基于Intel80C196KC微控制器的硬件设计方案，................共58页
16、微弧氧化特种电源主拓扑结构与控制系统设计
根据微弧氧化技术的工艺要求,研制了一台适合微弧氧化技术用的特种脉冲电源.电源可以实现正负0~500V独立可调双向非对称脉冲输出,输出脉冲频率0~999Hz可调.由于所研制的电源具有较大的参数变换范围,因此可以满足微弧氧化实验研究工作的需要.本首先介绍了电源拓扑结构的设计.本电源在主电路设计方面,采用斩波电路和逆变电路相结合的方式,通过斩波电路调节占空比来调节输出电压的大小,利用逆变电路实现输出波形的控制,这种结构大大简化了电源结构和控制策略,减小了电源的体积.在控制方面,采用基于Intel80C196KC微控制器的硬件设计方案,控制系统硬件主要包括键盘显示电路、A/D转化电路以及功率器件接口电路.通过微控制器向斩波电路和逆变电路发出驱动信号,控制IGBT的通断,达到控制................共50页
17、脉冲等离子体电解氧化机理与工艺
微弧氧化技术对铝、钛、镁等轻金属及合金表面改性有其独特的优点，这种方法得到的氧化膜有良好的绝缘性、耐磨性、耐腐蚀性等特点。微弧氧化技术电解液符合生态标准，微弧氧化中只放出氢气和氧气，工艺过程无污染，属环保型表面处理技术。本文探索了微弧氧化膜的生长机理。考察了电解液配比与铸铝和钛表面的氧化膜厚度、硬度关系。并对其配比进行优化，得出溶液成份为：①柠檬酸钠3g/l、硅酸钠5g/l、氢氧化钠1g/l、钨酸钠1g/l，在此条件下氧化膜厚度可达140μm；②六偏磷酸钠4g/l、硅酸钠5g/l、氢氧化钠1g/l、钨酸钠2g/l，在此条件下硬度可达1204Hv0.5。探讨了分别加入EDTA和SDBS对氧化膜厚度、硬度影响。探讨单向脉冲电源占空比对氧化膜成膜速度、厚度、硬度的影响................共48页
18、铝合金微弧氧化膜的制备工艺与性能优化
在磷酸盐体系、硅酸盐体系及碳酸盐体系微弧氧化的基础上,综合提出一种新的微弧氧化电解液配方,即磷酸盐、硅酸盐及碳酸盐的混合体系.并以膜层厚度、抗点蚀性能和抗盐溶液浸泡腐蚀性能实验为指标,应用正交实验方法优化出较佳的电解液浓度.在此基础上,进一步考察电流密度和氧化时间对铝合金微弧氧化膜生长过程及性能的影响,得到较佳的工艺参数.并利用光学显微镜、SEM和XRD等技术观察分析了陶瓷膜层的微观组织和结构特点................共40页
19、微弧氧化镀覆金属表面方法与装置
20、一种钛合金微弧氧化技术
21、微弧氧化锌铝合金表面生成陶瓷层
22、零件内孔表面处理微弧氧化装置
23、用于微弧氧化高频大功率多波形电源
24、表面具有微弧氧化陶瓷膜整体铝合金缝纫机针杆
25、一种内表面具有微弧氧化陶瓷膜层铝合金气缸
26、铝合金缸体内表面微弧氧化处理工艺
27、铝合金铸件微弧氧化处理电解溶液
28、一种对轻金属表面进行等离子微弧氧化方法
29、流光放电等离子体氧化亚硫酸盐
30、具有放电间隙吸收电路高频大功率微弧氧化脉冲电源
31、一种耐蚀性镁合金微弧氧化电解液与其微弧氧化方法
32、一种环保型镁合金微弧氧化电解液以与微弧氧化方法
33、一种小口径细长铝管内表面微弧氧化处理装置
34、铝 镁合金管材与异型件微弧氧化处理装置
35、微弧氧化生成氧化铝陶瓷孔板
36、半导体装置制造方法和等离子体氧化处理方法
37、钢铁表面微弧氧化处理方法
38、一种镁合金表面微弧氧化方法
39、镁/铝合金在铝酸盐体系中微弧氧化表面处理电解液
40、微波等离子体氧化水处理方法与其应用
41、不锈钢表面微弧氧化研磨抛光方法
42、有色金属制品微弧氧化处理局部屏蔽方法
43、微弧氧化摩擦式阴极
44、一种微弧氧化设备用电压控制装置
45、半导体装置制造方法和等离子体氧化处理方法
46、铝合金表面无疏松层微弧氧化陶瓷膜与其制备方法
47、以淡水为溶剂微弧氧化处理工艺
48、高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法
49、在镁合金表面生成微弧氧化陶瓷层方法
50、微弧氧化膜层表面化学镀覆合金方法与其化学镀溶液
51、微弧氧化电解液与其用于表面改性方法
52、钛金属表面生物活性膜层与其喷砂-微弧氧化复合工艺
53、一种等离子体氧化脱除室内空气中甲醛方法
54、一种微等离子体氧化处理装置
55、半导体装置制造方法和等离子体氧化处理方法
56、等离子体氧化与氧化材料去除
57、一种低能耗微弧氧化方法和装置
58、等离子微弧氧化法制备羟基磷灰石生物陶瓷膜方法
59、提高镁合金微弧氧化膜层性能处理液与前处理方法
60、一种镁基微弧氧化电解液与其微弧氧化方法
61、大面积工件表面微弧氧化处理方法与其装置
62、一种微弧氧化过程电参数控制方法
63、电压阶跃微弧氧化方法
64、铝合金微弧氧化量产工艺
65、微弧氧化沉积复合陶瓷膜方法
66、稀土镁合金微弧氧化绿色陶瓷膜制备方法
67、医用镍钛合金微弧氧化处理方法
68、高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法
69、医用镍钛合金表面微弧氧化制备AlO薄膜方法
70、一种用于轻金属微弧氧化电解液与微弧氧化方法
71、一种提高轻合金微弧氧化涂层疲劳寿命方法
72、介质阻挡放电等离子体氧化 溶液吸收联合处理废气装置与方法
73、镁合金微弧氧化处理
74、一种低能耗微弧氧化装置
75、等离子体氧化处理方法和半导体装置制造方法
76、两级逆变式微弧氧化电源与其输出调节控制方法
77、合金表面微弧氧化制备防腐抗磨陶瓷涂层方法
78、镁合金微弧氧化制备深绿色陶瓷膜方法
79、镁合金微弧氧化黑色陶瓷膜制备方法
80、可控降解微弧氧化金属支架与其制备方法
81、硅溶胶改性Mg-Li合金表面等离子体氧化处理液与处理方法
82、一种减少钛合金表面摩擦系数微弧氧化工艺
83、镁合金焊接接头微弧氧化工艺
84、用于微弧氧化制备纳米陶瓷涂层电解液与处理方法
85、一种用微弧氧化技术在NiTi合金表面原位生成TiO氧化膜方法
86、一种电解液与锆或锆合金表面微弧氧化方法
87、表面具微弧氧化陶瓷膜铝合金与其制备方法
88、微弧氧化膜封孔方法
89、微弧氧化膜封孔方法
90、微弧氧化膜封孔方法
91、微弧氧化膜封孔方法
92、微弧氧化方法
93、大尺寸工件表面电场拘束微距微弧氧化处理方法与装置
94、一种用于钛基微弧氧化电解质溶液
95、用于锆合金表面等离子体微弧氧化陶瓷层制备电解液与工艺
96、一种镁合金表面磷化和微弧氧化复合处理方法
97、一种环保型镁合金化学转化膜和微弧氧化膜封孔溶液以与封孔方法
98、一种耐热铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法
99、一种镁基生物活性涂层微弧氧化-电沉积制备方法
100、一种镁合金微弧氧化复合添加剂
101、一种镁合金表面微弧氧化陶瓷层表面活化溶液与活化方法
102、一种低噪音微弧氧化装置
103、钛合金微弧氧化涂层制备方法
104、微弧氧化处理口腔用镍铬合金表面方法
105、一种用于大尺寸金属圆管内表面微弧氧化装置
106、带有移动阴极局部电场控制微弧氧化设备
107、以微弧氧化工艺为前处理镁合金化学镀镍表面处理方法
108、一种微弧氧化膜层制备方法
109、一种磁场作用下微弧氧化膜层制备方法
110、镁合金制件表面微弧氧化陶瓷层着色方法
111、一种低能耗阳极渐入式微弧氧化处理方法与装置
112、一种镁合金表面微弧氧化 喷涂复合膜制备方法
113、微弧氧化制备K2Ti6O13涂层及K2Ti6O13HAp生物陶瓷膜的方法
114、微弧氧化制TiO2Na2Ti6O13生物陶瓷膜的方法
115、十二烷基磺酸钠/十二烷基苯磺酸钠/二苯胺－4－磺酸钠在表面微弧氧化工艺中的用途
116、Q235钢制件表面微弧氧化电泳涂装复合处理的方法
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微弧氧化又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，是一种新型的表面处理方法。利用此技术形成的表面膜层具有与基体的结合力强、硬度高、耐磨性、耐蚀性、抗热震性高、膜层电绝缘性好、击穿电压高等优异的物理化学性能。在材料表面处理领域中，微弧氧化技术正成为一个研究的热点。应用于微弧氧化技术的电源称为微弧氧化电源。电源是微弧氧化技术制备陶瓷膜的关键设备，目前用微弧氧化方法处理金属表面时，所用的电源大多为直流电源或单向脉冲式电源，本系统是在消除现有电源不足的基础上而设计的基于DSP控制的双端脉冲式变压变频微弧氧化电源。该电源是一种正、负脉冲幅度、频率、占空比以及脉冲个数分别连续可调的双极性大功率电源。通过对工作脉冲参数的优化选择，能确................共45页
2、铝合金表面微弧氧化陶瓷膜制备工艺设计
在很多特殊的工业领域，为满足某些特殊的性能需求，必顺用到铝及其合金，但铝及其合金的表面硬度低、耐腐蚀性与耐磨性差、抗热震性差，制约了铝合金的应用。通过表面处理工艺进行处理，可以提高铝合金的综合性能。微弧氧化工艺是在阳极氧化工艺基础上发展起来的新兴表面处理技术，微弧氧化膜层具有硬度高，绝缘性与耐腐蚀性和耐磨性好，高抗热震性，氧化膜与基体结合力强等优点，极大地提高了铝合金的应用范围。微弧氧化(MAO)又称微等离子体氧化(MPO)或阳极火花沉积(ASD)，还有人称之为等离子体增强电化学表面陶瓷化(PECC)。是通过控制调整电解液与相应电参数的组合，在铝、镁、钛及其合金表面依靠微等离子体放电产生的瞬时高温高压作用，经过化学、电化学、热化学、等离子化................共53页
3、具有放电回路镁合金微弧氧化脉冲电源
微弧氧化是在阳极氧化工艺的基础上发展起来一种表面改性新技术，它利用微区电弧放电在金属表面生成陶瓷状氧化膜。本文根据微弧氧化处理过程中的工艺要求和现象，以自行研制的多功能脉冲微弧氧化电源为试验平台，通过对膜层生长过程的探讨了镁合金微弧氧化膜层形成机理，提出微区电弧放电模型；根据对系统负载特性的分析提出微弧氧化对电源的要求，并据此设计了一种新型的带放电回路的微弧氧化脉冲电源。研究表明，微弧氧化过程主要分为阳极氧化、微弧放电、大弧放电三个阶段。微弧氧化膜层是由一系列离散的微区电弧放电产生的金属氧化物累积形成，瞬间完成的微小区域内的电弧放电，使生成的氧化物经历骤热骤冷过程，从而可获得非平衡组织结构的金属氧化物膜层。微区电弧放电................共43页
4、镁合金微弧氧化中局部烧蚀现象与解决方案研究
微弧氧化是一种新兴起的材料表面处理方法，是在阳极氧化的基础上发展起来的一项高新技术。其原理是通过电参数和电解液的匹配调整，在阳极表面产生微区弧光放电原位生长出一层陶瓷膜。在镁合金微弧氧化过程中存在一种气体持续燃烧现象，一旦这种局部烧蚀现象持续发生将会烧蚀镁合金基体，造成处理工件报废。这成为限制镁合金应用的最关键性问题。本文以镁合金AZ91D为研究材料，观察了镁合金试样和镁合金摩托车轮毂在进行微弧氧化处理过程中出现的局部烧蚀现象，通过大量不同工艺条件下的试验和观察，进行了镁合金微弧氧化溶液和电参数优化。研究表明：当电解液配方为：Na2SiO313g/L、KF12g/L、NaOH4g/L，脉冲频率700Hz，占空比20％时，能够有效的抑制局部烧蚀现象的................共58页
5、铸造铝合金微弧氧化工艺优化
使用自行研制的MAO-100型微弧氧化设备，采用Si、Cu元素含量各不相同的LY12、ZL104、ZL108、YL112铝合金为基材，研究分析了基材中Si、Cu元素含量以及电解液种类和成分对铸造铝合金微弧氧化工艺过程和微弧氧化陶瓷层的影响；采用对比试验的方法，调整电解液组分及浓度，对含有Si、Cu元素的铸造铝合金进行微弧氧化处理，以起弧早、提高膜层生长速率、降低电流密度为研究目标，优化电解液，开发降低铸造铝合金微弧氧化能源消耗的电解液；使用X射线衍射仪(XRD)分析含有Si、Cu元素的铸造铝合金在不同电解液中微弧氧化陶瓷层的相成分及其分布规律，使用扫描电子显微镜(SEM)观察陶瓷层的微观形貌特征。研究结果表明：基材中Si、Cu元素的存在会增加微弧氧化电流密度，同时减缓................共65页
6、稀土镁合金微弧氧化着色技术
通过在不同体系电解液中对SJDM-1稀土镁合金进行微弧氧化，在其表面制备出耐蚀性好的白色陶瓷膜，用正交实验法对硅酸盐和铝酸盐溶液体系的微弧氧化电解液配方进行优化，确定其最佳工艺条件参数。将着色剂加入到基础电解液体系中，利用微弧氧化技术在镁合金表面获得了不同色度的深色陶瓷膜。实验结果表明：膜层色泽的差别主要是由主盐和着色剂的不同所引起，在不同基础电解液中加入相同着色剂所得膜层颜色不同，在相同基础电解液中加入不同着色剂所得膜层颜色也不同。不同的电解液对膜层有不同的着色效果，陶瓷膜的色泽主要是由氧化膜中所形成的金属氧化物及其盐类的结构所决定的。通过条件实验分析了着色剂浓度、频率、占空比、电压对深色陶瓷膜层性................共60页
7、基于DSP镁合金数字化微弧氧化电源研究
镁合金具有密度小、比强度和比刚度高、减震性好、电磁屏蔽性好等特点，因此，镁合金越来越广泛的应用于航空、汽车和电子通讯等工业中。但它的耐蚀性差，严重限制了其应用的发展。常用的化学氧化和阳极氧化等表面处理方法对镁合金有一定的保护作用，但是耐蚀性、外观等方面仍不能满足其应用发展的需要。近年来，人们进行了各种新技术的开发，微弧氧化技术较好的满足了上述要求。微弧氧化又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，是新兴起的一种材料表面处理方法，是在阳极氧化的基础上发展起来的一项高新技术。电源设备是微弧氧化技术制备陶瓷膜的关键设备，目前用微弧氧化方法处理金属表面时，所用的电源大多为直流电源或直流加单向脉冲式电源，本系统是在消除现有电源不足的基础上................共44页
8、镁合金微弧氧化工艺参数与其成膜过程研究
微弧氧化技术是一项从传统阳极氧化基础上发展起来的技术。本课题以AZ91D镁合金为基体材料，对微弧氧化硅酸盐电解液配方及其相适宜的工艺参数进行了系统的实验和研究；运用能谱分析(EDS)分析方法，对微弧氧化陶瓷层的化学组分进行了分析，分析了电解液组分以及工艺参数对镁合金试样的起弧电压、陶瓷层厚度、陶瓷层表面形貌、陶瓷层主要元素分布的影响；讨论了电解液以及工艺参数对陶瓷层的生长过程的影响机理。实验得到AZ91D镁合金微弧氧化电解液最优配方及与之相适宜的工艺参数为：Na2SiO313g/L，NaOH12g/L，KF4g/L，脉冲频率700Hz。在上述条件下微弧氧化10min可获得性能良好的陶瓷层。电解液的组成影响电解液的电导率，从而影响微弧氧化过程中................共55页
9、220KW/微弧氧化双极性脉冲电源研制
镁及其合金的耐蚀性极差。因此，在镁及镁合金的加工、贮存和使用过程中，必须对其表面实施一定的保护措施。微弧氧化技术具有工艺简单、清洁无污染、膜层均匀质硬，材料适应性宽等特点，得到的微弧氧化膜既具备普通阳极氧化膜的性能，又兼有陶瓷喷涂层的优点，是镁合金阳极氧化的重点发展方向。电源参数对微弧氧化处理所得到的氧化膜性能有至关重要的影响，我们可以通过实验，研究电源参数对氧化膜性能的影响。而且，通过采集实验中电源参数和膜层性能参数，可以分析和总结出微弧氧化时的负载特性，确定工业生产要求的电源特性和参数，为微弧氧化机理研究打下基础。因此，研制大功率的、具有各种电源参数连续可调的微弧氧化电源极其成套设备就成为我们需要解决的首要问题................共50页
10、基于ARM的微弧氧化电源控制系统研制
在微弧氧化电源的研究中，驱动控制技术是制约其发展的关键技术之一。在对此技术日益推广和产业化的背景下，控制器和智能终端的研究成为微弧氧化电源的主要热点。对微弧氧化电源控制系统的研究与设计，不但能够改进我们现有设备的利用效率，而且提高了微弧氧化电源的易操作性和智能性，这些对微弧氧化电源的商业化推广和应用有着重要的意义。本文在简单介绍了微弧氧化电源的构成后，阐述了系统的技术要求，依据系统的技术要求，本文给出了系统的总体设计方案；并分别详细叙述了主控制系统和人机界面两部分的设计方案。最后，在考虑系统运行特点和微控制器发展的背景下，以基于ARM7的LPC2119和S3C44BOX芯片作为控制核心、以晶闸管智能模块为控制对象，从硬件和软件两个................共40页
11、大功率微弧氧化的电源
微弧氧化技术是一种新型的表面处理方法。利用此技术形成的表面膜层与基体的结合力强、硬度高，耐磨性、耐蚀性、抗热震性高，膜层电绝缘性好、击穿电压高。在材料表面处理领域中，微弧氧化技术正成为一个研究的热点。应用于微弧氧化技术的电源称为微弧氧化电源，根据微弧氧化技术的原理，人们可以根据实际的需要来设计电源。浙江大学电力电子研究所和公司合作进行一个横向课题，就是研制一个大功率的微弧氧化电源系统。该电源需要可输出双端不对称的高压脉冲电源，且正负两路脉冲的、、及均在一定范围内分别单独可调。电源系统的核心控制芯片为80C196MC单片机，因为单片机技术已经成熟，而且用80C196MC作为控制芯片已经可以满足电源系统的要求，可以降低整个电源系................共48页
12、镁合金微弧氧化工艺与机理研究
开发出一种绿色环保型镁及镁合金微弧氧化电解质溶液配方及其工艺。该配方不含铬、磷及其它对环境和人类健康有毒害的组分，却能显著提高镁及其合金以耐蚀性为主的表面综合防护性能。在此基础之上，针对直流和脉冲两种不同电源模式，系统地研究了各因素对镁微弧氧化成膜过程及所形成的陶瓷层性能的影响，并对微弧氧化成膜机理进行了探讨。通过正交实验设计得出了能制得性能优异的陶瓷层的工艺条件，研究过程中借助扫描电镜观察、X射线衍射等分析方法，观察了陶瓷层的形貌、结构，并测定了陶瓷层的物相；借助动电位扫描、点滴实验、浸泡腐蚀实验、交流阻抗解析、结合力测试等检测手段对不同实验条件下制备的陶瓷层的耐蚀性能、结合性能等性能进行了测试分析。得出................共51页
13、铝合金微弧氧化抗磨减摩涂层制备工艺
采用Na2SiO3系电解液通过一系列的铝合金微弧氧化工艺实验，研究微弧氧化过程中陶瓷氧化膜层的生长规律，不同电解质组成和浓度对陶瓷氧化膜质量的影响。采用扫描电镜(SEM)及x射线衍射相结构分析CXRD)陶瓷氧化膜微观形貌及膜层结构进行分析。采用销盘式磨损试验机研究了不同电解质组成对氧化膜的耐磨性的影响。SEM分析表明，陶瓷氧化膜层由疏松层和致密层构成，致密层约为整个膜层厚度的2／3左右。XRD分析表明陶瓷氧化膜中主要含有γ-Al203和α-A1203晶相成分，还含有少量电解液中添加的特殊功能粒子相。对实验数据及现象分析表明，随着NaSi03浓度升高，膜层厚度会随着增加，而膜层硬度会先增大后减小，膜层的均匀性及手感细腻程度会下降，NaSi03浓度过高后，会使微弧氧化进入弧................共60页
14、不同电参数条件下铝/镁合金微弧氧化陶瓷研究
利用自行研制的MAO系列微弧氧化电源设备，制备了不同电参数条件下的铝、镁合金微弧氧化陶瓷层。通过实验结果的比较和分析，探讨了电流密度、频率、占空比、正负脉冲个数等电参数条件对氧化陶瓷层性能的影响。的主要研究结果如下：1.铝合金陶瓷层的厚度随着电流密度的增大而增加，施加负脉冲可降低陶瓷层的生长厚度和陶瓷层表面粗糙度；当负脉冲个数为2和4时，陶瓷层对电解质的阻挡作用强，可降低腐蚀速度，提高其耐蚀性。2.铝合金微弧氧化陶瓷层主要由α-Al2O3、γ-Al2O3以及δ-Al2O3组成。其中具有紧密结构和高硬度的α-Al2O3相是提高陶瓷层硬度的主要相。3.镁合金陶瓷层生长过程中，在较高频率下制备的陶瓷层表面粗糙度较小；高频下................共62页
15、微弧氧化特种电源器件选择与分析
微弧氧化技术是一种在Al、Mg和Ti等阀金属表面原位生成陶瓷膜的新技术。由于原位生长陶瓷膜层具有与基体结合牢固、硬度高、耐磨性好等优点受到广泛关注，并孕育着巨大的市场前景。电源设备是该技术的关键设备，微弧氧化先后经历了交流电源、直流电源和脉冲电源。普遍认为，脉冲电源能够改善微弧氧化膜的性能，所以设计一台脉冲电源用于实验探索微弧氧化工艺参数非常重要。本介绍了微弧氧化电源的设计过程。本电源在主电路设计方面，采用斩波电路和逆变电路相结合的方式，通过斩波电路调节占空比来调节输出电压的大小，利用逆变电路实现输出波形的控制，这种结构大大简化了电源结构和控制策略，减小了电源的体积。在控制方面，采用基于Intel80C196KC微控制器的硬件设计方案，................共58页
16、微弧氧化特种电源主拓扑结构与控制系统设计
根据微弧氧化技术的工艺要求,研制了一台适合微弧氧化技术用的特种脉冲电源.电源可以实现正负0~500V独立可调双向非对称脉冲输出,输出脉冲频率0~999Hz可调.由于所研制的电源具有较大的参数变换范围,因此可以满足微弧氧化实验研究工作的需要.本首先介绍了电源拓扑结构的设计.本电源在主电路设计方面,采用斩波电路和逆变电路相结合的方式,通过斩波电路调节占空比来调节输出电压的大小,利用逆变电路实现输出波形的控制,这种结构大大简化了电源结构和控制策略,减小了电源的体积.在控制方面,采用基于Intel80C196KC微控制器的硬件设计方案,控制系统硬件主要包括键盘显示电路、A/D转化电路以及功率器件接口电路.通过微控制器向斩波电路和逆变电路发出驱动信号,控制IGBT的通断,达到控制................共50页
17、脉冲等离子体电解氧化机理与工艺
微弧氧化技术对铝、钛、镁等轻金属及合金表面改性有其独特的优点，这种方法得到的氧化膜有良好的绝缘性、耐磨性、耐腐蚀性等特点。微弧氧化技术电解液符合生态标准，微弧氧化中只放出氢气和氧气，工艺过程无污染，属环保型表面处理技术。本文探索了微弧氧化膜的生长机理。考察了电解液配比与铸铝和钛表面的氧化膜厚度、硬度关系。并对其配比进行优化，得出溶液成份为：①柠檬酸钠3g/l、硅酸钠5g/l、氢氧化钠1g/l、钨酸钠1g/l，在此条件下氧化膜厚度可达140μm；②六偏磷酸钠4g/l、硅酸钠5g/l、氢氧化钠1g/l、钨酸钠2g/l，在此条件下硬度可达1204Hv0.5。探讨了分别加入EDTA和SDBS对氧化膜厚度、硬度影响。探讨单向脉冲电源占空比对氧化膜成膜速度、厚度、硬度的影响................共48页
18、铝合金微弧氧化膜的制备工艺与性能优化
在磷酸盐体系、硅酸盐体系及碳酸盐体系微弧氧化的基础上,综合提出一种新的微弧氧化电解液配方,即磷酸盐、硅酸盐及碳酸盐的混合体系.并以膜层厚度、抗点蚀性能和抗盐溶液浸泡腐蚀性能实验为指标,应用正交实验方法优化出较佳的电解液浓度.在此基础上,进一步考察电流密度和氧化时间对铝合金微弧氧化膜生长过程及性能的影响,得到较佳的工艺参数.并利用光学显微镜、SEM和XRD等技术观察分析了陶瓷膜层的微观组织和结构特点................共40页
19、微弧氧化镀覆金属表面方法与装置
20、一种钛合金微弧氧化技术
21、微弧氧化锌铝合金表面生成陶瓷层
22、零件内孔表面处理微弧氧化装置
23、用于微弧氧化高频大功率多波形电源
24、表面具有微弧氧化陶瓷膜整体铝合金缝纫机针杆
25、一种内表面具有微弧氧化陶瓷膜层铝合金气缸
26、铝合金缸体内表面微弧氧化处理工艺
27、铝合金铸件微弧氧化处理电解溶液
28、一种对轻金属表面进行等离子微弧氧化方法
29、流光放电等离子体氧化亚硫酸盐
30、具有放电间隙吸收电路高频大功率微弧氧化脉冲电源
31、一种耐蚀性镁合金微弧氧化电解液与其微弧氧化方法
32、一种环保型镁合金微弧氧化电解液以与微弧氧化方法
33、一种小口径细长铝管内表面微弧氧化处理装置
34、铝 镁合金管材与异型件微弧氧化处理装置
35、微弧氧化生成氧化铝陶瓷孔板
36、半导体装置制造方法和等离子体氧化处理方法
37、钢铁表面微弧氧化处理方法
38、一种镁合金表面微弧氧化方法
39、镁/铝合金在铝酸盐体系中微弧氧化表面处理电解液
40、微波等离子体氧化水处理方法与其应用
41、不锈钢表面微弧氧化研磨抛光方法
42、有色金属制品微弧氧化处理局部屏蔽方法
43、微弧氧化摩擦式阴极
44、一种微弧氧化设备用电压控制装置
45、半导体装置制造方法和等离子体氧化处理方法
46、铝合金表面无疏松层微弧氧化陶瓷膜与其制备方法
47、以淡水为溶剂微弧氧化处理工艺
48、高强度铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法
49、在镁合金表面生成微弧氧化陶瓷层方法
50、微弧氧化膜层表面化学镀覆合金方法与其化学镀溶液
51、微弧氧化电解液与其用于表面改性方法
52、钛金属表面生物活性膜层与其喷砂-微弧氧化复合工艺
53、一种等离子体氧化脱除室内空气中甲醛方法
54、一种微等离子体氧化处理装置
55、半导体装置制造方法和等离子体氧化处理方法
56、等离子体氧化与氧化材料去除
57、一种低能耗微弧氧化方法和装置
58、等离子微弧氧化法制备羟基磷灰石生物陶瓷膜方法
59、提高镁合金微弧氧化膜层性能处理液与前处理方法
60、一种镁基微弧氧化电解液与其微弧氧化方法
61、大面积工件表面微弧氧化处理方法与其装置
62、一种微弧氧化过程电参数控制方法
63、电压阶跃微弧氧化方法
64、铝合金微弧氧化量产工艺
65、微弧氧化沉积复合陶瓷膜方法
66、稀土镁合金微弧氧化绿色陶瓷膜制备方法
67、医用镍钛合金微弧氧化处理方法
68、高太阳吸收率高发射率微弧氧化涂层制备方法
69、医用镍钛合金表面微弧氧化制备AlO薄膜方法
70、一种用于轻金属微弧氧化电解液与微弧氧化方法
71、一种提高轻合金微弧氧化涂层疲劳寿命方法
72、介质阻挡放电等离子体氧化 溶液吸收联合处理废气装置与方法
73、镁合金微弧氧化处理
74、一种低能耗微弧氧化装置
75、等离子体氧化处理方法和半导体装置制造方法
76、两级逆变式微弧氧化电源与其输出调节控制方法
77、合金表面微弧氧化制备防腐抗磨陶瓷涂层方法
78、镁合金微弧氧化制备深绿色陶瓷膜方法
79、镁合金微弧氧化黑色陶瓷膜制备方法
80、可控降解微弧氧化金属支架与其制备方法
81、硅溶胶改性Mg-Li合金表面等离子体氧化处理液与处理方法
82、一种减少钛合金表面摩擦系数微弧氧化工艺
83、镁合金焊接接头微弧氧化工艺
84、用于微弧氧化制备纳米陶瓷涂层电解液与处理方法
85、一种用微弧氧化技术在NiTi合金表面原位生成TiO氧化膜方法
86、一种电解液与锆或锆合金表面微弧氧化方法
87、表面具微弧氧化陶瓷膜铝合金与其制备方法
88、微弧氧化膜封孔方法
89、微弧氧化膜封孔方法
90、微弧氧化膜封孔方法
91、微弧氧化膜封孔方法
92、微弧氧化方法
93、大尺寸工件表面电场拘束微距微弧氧化处理方法与装置
94、一种用于钛基微弧氧化电解质溶液
95、用于锆合金表面等离子体微弧氧化陶瓷层制备电解液与工艺
96、一种镁合金表面磷化和微弧氧化复合处理方法
97、一种环保型镁合金化学转化膜和微弧氧化膜封孔溶液以与封孔方法
98、一种耐热铸造稀土镁合金微弧氧化处理方法
99、一种镁基生物活性涂层微弧氧化-电沉积制备方法
100、一种镁合金微弧氧化复合添加剂
101、一种镁合金表面微弧氧化陶瓷层表面活化溶液与活化方法
102、一种低噪音微弧氧化装置
103、钛合金微弧氧化涂层制备方法
104、微弧氧化处理口腔用镍铬合金表面方法
105、一种用于大尺寸金属圆管内表面微弧氧化装置
106、带有移动阴极局部电场控制微弧氧化设备
107、以微弧氧化工艺为前处理镁合金化学镀镍表面处理方法
108、一种微弧氧化膜层制备方法
109、一种磁场作用下微弧氧化膜层制备方法
110、镁合金制件表面微弧氧化陶瓷层着色方法
111、一种低能耗阳极渐入式微弧氧化处理方法与装置
112、一种镁合金表面微弧氧化 喷涂复合膜制备方法
113、微弧氧化制备K2Ti6O13涂层及K2Ti6O13HAp生物陶瓷膜的方法
114、微弧氧化制TiO2Na2Ti6O13生物陶瓷膜的方法
115、十二烷基磺酸钠/十二烷基苯磺酸钠/二苯胺－4－磺酸钠在表面微弧氧化工艺中的用途
116、Q235钢制件表面微弧氧化电泳涂装复合处理的方法
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