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商品详细描述
[CN8075-0144-0001] 阴极射线管及阴极射线管用高压帽
[摘要] 一种能够显著减小沿面放电电流及有效防止高压放电的阴极射线管及阴极射线管用高压帽。它是在CRT阳极周围的玻壳外表面上固设一个阴电极环,其外缘与石墨层电连接;在阳极周围的玻壳内壁涂敷一个内绝缘膜圆面,其直径大于阴电极环的直径;在阳极与内导电膜间设置导体,其一端与阳极电连接,另一端与内导电膜电连接。在CRT用高压帽的内中部同设一个高压弹簧,其固定端与高压挂钩电连接。阴电极环和高压弹簧的设置主要是增大高压极的电极曲率半径。内绝缘膜的涂敷极大减小了阳极周围玻壳外表面与内导电膜间的分布电容。
[CN8075-0129-0002] 平面荧光灯
[摘要] 本发明是有关于一种平面荧光灯包括一第一面板、一第二面板、一玻璃边条、一抽气管以及一组电极。第一面板与第二面板上皆具有一荧光层,玻璃边条配置于两面板间的边缘上,且玻璃边条上预留凹槽及缺口。其中,凹槽用以配置电极,并使得电极相互平行并紧贴玻璃边条配置,而玻璃边条上的缺口用以配置抽气管。第一面板、第二面板与玻璃边条构成一空腔,空腔内由抽气管抽成真空状态,再导入水银蒸气与惰性气体。
[CN8075-0057-0003] 无光敏气体放电管的阴极发射材料
一种无光敏气体放电管的阴极发射材料的制备方法,其特征在于采用的材料配方为氧化铈1000mg+碳酸铯200mg+氧化镁100mg+去离子水100ml。采用本发明的阴极发射材料所制备的气体放电管,不出现光敏现象,由于材料的配方中没有使用放射性材料,对人体不会造成危害,更具有生产实用性。
[CN8075-0113-0004] 夹持基片的方法和装置
[摘要] 一种夹持基片的装置,它包括:用于以静电方法夹紧和夹持基片的一个静电卡盘;用于将直流夹紧电压加在所述静电卡盘上的夹紧电源;机械驱动所述静电卡盘的卡盘驱动装置;和通过将指令信息加在所述卡盘驱动装置上,控制所述卡盘驱动装置的运动和驱动控制部件。该装置还包括一个夹紧控制部件,它根据从驱动控制部件加在卡盘驱动装置上的指令信息,计算在所述静电卡盘机械运动时,所夹持的基片经受的在每一个时刻的加速度。另外,还可利用计算的加速度,计算在每一个时刻,夹紧基片所需的夹紧力;并可根据计算的夹紧力,改变从夹紧电源输出的夹紧电压,使静电卡盘产生计算的夹紧力。
[CN8075-0003-0005] 具有附着于一个较高膨胀框架的一个较低膨胀张力荫罩的彩色显像管
[摘要] 彩色显像管(10)具有一个张力荫罩(24),由安放在所述显像管内的一个支撑框架(28)所支撑。荫罩比框架具有很低的热膨胀系数。中间部件(48)位于所述荫罩和所述框架之间。中间部件是与荫罩类似的一种材料。每个中间部件以单一的位置(50)附着于框架,并且荫罩附着于中间部件的边缘。此外,还包括用于把中间部件保持到框架的导轨(56,58),同时相对于中间部件允许框架的扩张。
[CN8075-0005-0006] 电子喷雾质谱分析的方法和装置
[摘要] 本发明提供一种用于执行电子喷雾电离质谱分析的方法和装置,所述方法能够精确分析不稳定有机金属络合物或聚合有机化合物的大量分子离子或裂片离子。所述方法包括冷却一个待分析的包含一种溶剂的样本,该样本与一种用于低温汽化的惰性气体(A)一起从一个小直径喷管中喷出,以及在用液氮冷却一个用于分离溶剂的腔室(7)或离子源屏蔽板(8)的同时对所述样本进行电离和质谱分析。
[CN8075-0103-0007] 减小场发射阴极三极管中门栅电极截获电流的方法
[摘要] 一种减小场发射阴极三极管中门栅电极截获电流的方法,涉及场发射器件,特别是对远门栅电极的场发射阴极三极管为提高阳极电流,减小门栅电极对电流的截获而采用的方法。它包括制作在阴极电极1上的微尖电子发射体2、一块控制微尖发射场强的带有电子引出孔的门栅电极3和将具有比门栅电极电位更高使电子从门栅电极抽出并加速的阳极4,其特征是在门栅电极3上,有为减小门栅电极3电流截获的介质层8,微尖电子发射体2上发射的电子,有部分轰击到门栅电极3的介质层8上而产生二次电子发射,在门栅电极3和阳极电位的共同作用下,产生的二次电子通过在介质层8表面的跳跃向阳极4方向运动,并达到阳极4,应用这种技术,可以降低门栅电极对阴极发射电子的截获,同时可以提高器件的可靠性。
[CN8075-0140-0008] 一种彩电管座生产工艺改进技术
[摘要] 一种彩电管座生产工艺改进技术,在彩电管座生产时未组合在一起前,先把彩电管座聚焦电极,聚焦腔空气介质电容接地电极全部用硅脂喷涂一层,使其与空气隔离。在把彩电管座组合在一起。
[CN8075-0192-0009] 等离子体加工系统及其方法
[摘要] 一种用来加工衬底的等离子体加工系统,它包括单室的、基本上方位对称的等离子体加工室,在其中等离子体被点燃并被保持以用于加工。该等离子体加工室不具有单独的等离子体发生室。该等离子体加工室具有上端和下端。该等离子体加工系统包括设在等离子体加工室上端的耦合窗口以及在衬底被置于用于加工的等离子体加工室中时处于由衬底所确定的平面上方的RF天线装置。等离子体加工系统还包括设在由衬底确定的平面上方的电磁铁装置。该电磁铁装置被构型成,当至少一个直流电流被馈送到电磁铁时在等离子体加工室的耦合窗口和天线附近的区域中引起可控磁场的径向变化。此径向变化可用来影响衬底上的加工均匀性。等离子体加工系统还包括耦合到电磁铁装置的直流电源。此直流电源具有控制器,用来改变至少一个直流电流的幅度,从而改变等离子体加工室的天线附近区域中的可控磁场的径向变化,以改善衬底上的加工均匀性。
[CN8075-0091-0010] 高压放电灯及其制造方法
[摘要] 本发明提供一种具有优良特性的高压放电灯。高压放电灯(100)具有相对设置一对电极(12、12’)的发光管(10),发光管(10)内至少含有水银和卤素,而且,发光管(10)内具有选自Pt、Ir、Rh、Ru、Re中的至少1种金属。
[CN8075-0174-0011] 彩色显象管
[CN8075-0085-0012] 动态水平线性校正
[CN8075-0187-0013] 用于彩色阴极射线管的荧光屏的制造方法
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[CN8075-0145-0030] 荫罩框架组件和用它的彩色阴极射线管
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[CN8075-0217-0217] 电极材料、电介质材料及使用它们的等离子体显示面板
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[摘要] 一种能够显著减小沿面放电电流及有效防止高压放电的阴极射线管及阴极射线管用高压帽。它是在CRT阳极周围的玻壳外表面上固设一个阴电极环,其外缘与石墨层电连接;在阳极周围的玻壳内壁涂敷一个内绝缘膜圆面,其直径大于阴电极环的直径;在阳极与内导电膜间设置导体,其一端与阳极电连接,另一端与内导电膜电连接。在CRT用高压帽的内中部同设一个高压弹簧,其固定端与高压挂钩电连接。阴电极环和高压弹簧的设置主要是增大高压极的电极曲率半径。内绝缘膜的涂敷极大减小了阳极周围玻壳外表面与内导电膜间的分布电容。
[CN8075-0129-0002] 平面荧光灯
[摘要] 本发明是有关于一种平面荧光灯包括一第一面板、一第二面板、一玻璃边条、一抽气管以及一组电极。第一面板与第二面板上皆具有一荧光层,玻璃边条配置于两面板间的边缘上,且玻璃边条上预留凹槽及缺口。其中,凹槽用以配置电极,并使得电极相互平行并紧贴玻璃边条配置,而玻璃边条上的缺口用以配置抽气管。第一面板、第二面板与玻璃边条构成一空腔,空腔内由抽气管抽成真空状态,再导入水银蒸气与惰性气体。
[CN8075-0057-0003] 无光敏气体放电管的阴极发射材料
一种无光敏气体放电管的阴极发射材料的制备方法,其特征在于采用的材料配方为氧化铈1000mg+碳酸铯200mg+氧化镁100mg+去离子水100ml。采用本发明的阴极发射材料所制备的气体放电管,不出现光敏现象,由于材料的配方中没有使用放射性材料,对人体不会造成危害,更具有生产实用性。
[CN8075-0113-0004] 夹持基片的方法和装置
[摘要] 一种夹持基片的装置,它包括:用于以静电方法夹紧和夹持基片的一个静电卡盘;用于将直流夹紧电压加在所述静电卡盘上的夹紧电源;机械驱动所述静电卡盘的卡盘驱动装置;和通过将指令信息加在所述卡盘驱动装置上,控制所述卡盘驱动装置的运动和驱动控制部件。该装置还包括一个夹紧控制部件,它根据从驱动控制部件加在卡盘驱动装置上的指令信息,计算在所述静电卡盘机械运动时,所夹持的基片经受的在每一个时刻的加速度。另外,还可利用计算的加速度,计算在每一个时刻,夹紧基片所需的夹紧力;并可根据计算的夹紧力,改变从夹紧电源输出的夹紧电压,使静电卡盘产生计算的夹紧力。
[CN8075-0003-0005] 具有附着于一个较高膨胀框架的一个较低膨胀张力荫罩的彩色显像管
[摘要] 彩色显像管(10)具有一个张力荫罩(24),由安放在所述显像管内的一个支撑框架(28)所支撑。荫罩比框架具有很低的热膨胀系数。中间部件(48)位于所述荫罩和所述框架之间。中间部件是与荫罩类似的一种材料。每个中间部件以单一的位置(50)附着于框架,并且荫罩附着于中间部件的边缘。此外,还包括用于把中间部件保持到框架的导轨(56,58),同时相对于中间部件允许框架的扩张。
[CN8075-0005-0006] 电子喷雾质谱分析的方法和装置
[摘要] 本发明提供一种用于执行电子喷雾电离质谱分析的方法和装置,所述方法能够精确分析不稳定有机金属络合物或聚合有机化合物的大量分子离子或裂片离子。所述方法包括冷却一个待分析的包含一种溶剂的样本,该样本与一种用于低温汽化的惰性气体(A)一起从一个小直径喷管中喷出,以及在用液氮冷却一个用于分离溶剂的腔室(7)或离子源屏蔽板(8)的同时对所述样本进行电离和质谱分析。
[CN8075-0103-0007] 减小场发射阴极三极管中门栅电极截获电流的方法
[摘要] 一种减小场发射阴极三极管中门栅电极截获电流的方法,涉及场发射器件,特别是对远门栅电极的场发射阴极三极管为提高阳极电流,减小门栅电极对电流的截获而采用的方法。它包括制作在阴极电极1上的微尖电子发射体2、一块控制微尖发射场强的带有电子引出孔的门栅电极3和将具有比门栅电极电位更高使电子从门栅电极抽出并加速的阳极4,其特征是在门栅电极3上,有为减小门栅电极3电流截获的介质层8,微尖电子发射体2上发射的电子,有部分轰击到门栅电极3的介质层8上而产生二次电子发射,在门栅电极3和阳极电位的共同作用下,产生的二次电子通过在介质层8表面的跳跃向阳极4方向运动,并达到阳极4,应用这种技术,可以降低门栅电极对阴极发射电子的截获,同时可以提高器件的可靠性。
[CN8075-0140-0008] 一种彩电管座生产工艺改进技术
[摘要] 一种彩电管座生产工艺改进技术,在彩电管座生产时未组合在一起前,先把彩电管座聚焦电极,聚焦腔空气介质电容接地电极全部用硅脂喷涂一层,使其与空气隔离。在把彩电管座组合在一起。
[CN8075-0192-0009] 等离子体加工系统及其方法
[摘要] 一种用来加工衬底的等离子体加工系统,它包括单室的、基本上方位对称的等离子体加工室,在其中等离子体被点燃并被保持以用于加工。该等离子体加工室不具有单独的等离子体发生室。该等离子体加工室具有上端和下端。该等离子体加工系统包括设在等离子体加工室上端的耦合窗口以及在衬底被置于用于加工的等离子体加工室中时处于由衬底所确定的平面上方的RF天线装置。等离子体加工系统还包括设在由衬底确定的平面上方的电磁铁装置。该电磁铁装置被构型成,当至少一个直流电流被馈送到电磁铁时在等离子体加工室的耦合窗口和天线附近的区域中引起可控磁场的径向变化。此径向变化可用来影响衬底上的加工均匀性。等离子体加工系统还包括耦合到电磁铁装置的直流电源。此直流电源具有控制器,用来改变至少一个直流电流的幅度,从而改变等离子体加工室的天线附近区域中的可控磁场的径向变化,以改善衬底上的加工均匀性。
[CN8075-0091-0010] 高压放电灯及其制造方法
[摘要] 本发明提供一种具有优良特性的高压放电灯。高压放电灯(100)具有相对设置一对电极(12、12’)的发光管(10),发光管(10)内至少含有水银和卤素,而且,发光管(10)内具有选自Pt、Ir、Rh、Ru、Re中的至少1种金属。
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