电蚀刻机-蚀刻机输送技术资料

[CS707-0030-0001] 使用等离子清洁液晶显示器的方法与装置
[摘要] 一种使用等离子清洁薄膜晶体管液晶显示器的方法以及使用此清洁方法的薄膜晶体管液晶显示器的制造装置。此装置包括一等离子处理器或是数个等离子处理器，其放置在前面阶段或是放置在前面阶段以及一高速喷洒器后面阶段，此高速喷洒器用来喷洒清洁液、蚀刻液、剥除液或是显影液。由于此装置的结构可以在同一薄膜晶体管液晶显示器上同时进行多种清洁功能，因此其可以有效的使用制造空间，并发挥最大的清洁效率。
  [CS707-0204-0002] 啤酒桶(15)
[摘要] 1.左、右视图对称,省略右视图; 2.产品是用其上面的文字和图案经蚀刻工艺形成的不锈钢板制成; 3.主要创作部位为:1)两条加强筋;2)出液孔位于加强筋与桶底之间。
  [CS707-0050-0003] 一种降低快闪存储器随机位故障的方法
 
本发明提供一种高栅极耦合比堆叠栅极非易失性存储器的制作方法。本发明包括有下列步骤：提供一衬底，该衬底表面包含有一沟道区域以及一位线区域；于该衬底的沟道区域上形成一堆叠层，其中该堆叠层包含有一多晶硅层以及一牺牲层形成于该多晶硅层的上方；沉积一介电层，覆盖该沟道区域以及该位线区域，其中该位线区域上的该介电层厚度大于该多晶硅层厚度，但是小于该堆叠层厚度；各向同性干法蚀刻一预定厚度的该介电层，以暴露出部分该牺牲层，并将该介电层分为两个不相接触的第一部分介电层以及第二部分介电层，其中该第一部分介电层位于该牺牲层的上方；以及去除该牺牲层以及该第一部分介电层。
  [CS707-0092-0004] 电解扫描文字图案蚀刻装置
[摘要] 电解扫描文字图案蚀刻装置，它是采用一种电极电解液喷嘴为长方形、针管形或软刷形的通用阴极工具，运用扫描运行方式，对钢模文字、图案进行精密蚀刻或对注塑模型腔进行皮纹修饰，可取代手工方法对钢模进行雕凿或手工滴定腐蚀法。本装置为电解加工技术开拓了一个新的应用领域，具有结构简单、加工方便、精度高、工效高、投资少、易实现等特点，是一种理想的蚀刻装置。
  [CS707-0101-0005] 蚀刻成型的金属箔画板
[摘要] 本实用新型涉及一种改进的蚀刻成型的金属箔画板，以厚度很薄的（３０μｍ以下）金属板蚀刻成各种图案色彩的画面，蚀刻后的画面由粘合剂粘贴在一个刚性基板上，本实用新型成本较低，具有很高的观赏价值，不失为一种物美价廉的金属装饰工艺品。
  [CS707-0073-0006] LED构装基座及插脚的构造及制造方法
[摘要] 本发明说明一种三原色LED四支插脚及封装基座的构造及其制造方法。其中一支插脚形成晶粒座及共享负极接线座，另三支插脚形成正极接线座。前述负极接线座及正极接线座位于方形的四个角上，两支插脚向右延伸，另两支插脚向左延伸。以冲模冲压成形，或以蚀刻法或电镀法形成，一次将多数个成形，再将四支插脚自接线座附近向下朝同一方向弯折90°而成可站立的姿势，先进行晶粒焊接及打线，再切开成单一构造，然后以铸模用透明塑料密封；或先以铸模用透明塑料密封，再切开成单一构造。另一构造为将四支插脚末端向内再弯折作表面黏着封装之用。
  [CS707-0020-0007] 形成隔离元件时消除应力与损伤的方法
[摘要] 本发明提供一种于一沟槽隔离元件形成时消除应力与损伤的方法，至少包括：提供一半导体底材；蚀刻半导体底材以形成一沟槽结构；及退火处理，例如以高温退火或快速热退火方式处理沟槽结构，借以消除沟槽结构的应力，达到避免半导体元件可靠度降低的目的。也可在形成一侧壁氧化层于沟槽结构的一侧壁上后，退火处理侧壁氧化层，借以消除沟槽结构的氧化层所产生的应力。
  [CS707-0022-0008] 形成黏性强化层于铜层与蚀刻停止层间的方法
[摘要] 一种形成黏性强化层于铜层与蚀刻停止层间的方法，其至少包含下列步骤：形成一黏性强化层于铜层之上，其中此铜层位于一半导体基底上，而此黏性强化层的形成方法包会以氮气、氧气、氮气与烷基矽烷的混合气体、或烷基矽烷为反应气体，利用电浆增强式化学汽相沉积法沉积而得；形成一蚀刻停止层于此黏性强化层之上。
  [CS707-0134-0009] 金属板漆画
[摘要] 一种金属板漆画，其画框中所嵌入或粘贴的金属画面是所设计画稿的照像底片在金属材料上显影后，经过腐蚀液蚀刻而成的凹凸画面，该画面可上彩或电镀成金或银色，上面覆盖有一层透明光油。该金属板漆画新颖别致，流光溢彩，是装饰艺术品中的一颗奇葩。
  [CS707-0036-0010] 降低氮化硅的湿蚀刻速率的方法
[摘要] 本发明公开了一种降低氮化硅的湿蚀刻速率的方法，主要是将含氮离子布植于氮化硅层中，然后再利用一道热回火过程修补布植所造成的破坏，并形成Si-N键结以降低其湿蚀刻速率。根据本发明的方法，可以提高氧化硅对氮化硅的蚀刻选择率，以解决低温沉积的低压化学气相沉积法(LPCVD)氮化硅层无法作为蚀刻终止层的问题。
  [CS707-0087-0011] 天然大理石彩色蚀刻画及其制作方法
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