氧化铌靶材供应

五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶，二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，钨靶，二铝靶，五氧化二钽靶，五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、氟化镁靶，靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。反应磁控溅射制备化合物薄膜的优点：1.所用靶材和反应气体是氧、氮、碳氢化合物等，通常容易获得高纯度制品，有利于制备高纯度的化合物薄膜;2.通过调节工艺参数，可以制备化学配比或非化学配比的化合物薄膜。 日本显示公司日前宣布与半导体能源研究所签署了技术开发协议，双方将联合开发用于代显示器（包括OLED显示器）的氧化物半导体背板技术。