铬靶材厂

高纯真空溅射靶材可分为：高纯金属靶材、多元合金靶材、 陶瓷溅射靶材、金属膜电阻器用靶材。高纯金属靶材:锆靶Zr、铬靶Cr、钛靶Ti、铝靶Al、锡靶Sn、钒靶V、锑靶Sb、硼靶 B、钨靶W、锰靶Mn、铋靶Bi、铜靶Cu、石墨靶C、硅靶Si、钽靶Ta、锌靶Zn、镁勒 Mg、铌靶Nb、钼靶Mo、镍靶Ni、银靶Ag、不锈钢靶材等…… 多元合金靶材;钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr镍铝靶Ni-A1、镍钒靶Ni-V 镍铁靶Ni-Fe、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，是对靶材的成分、筹备和性能要求高的领域。 半导体芯片行业是金属溅射靶材的主要应用领域之一，是对靶材的成分、筹备和性能要求高的领域。具体来讲，半导体芯片的制作过程可分为硅片制造、晶圆制造和芯片封装等三大环节，其中，在晶圆制造和芯片封装这两个环节中都需要用到金属溅射靶材。