钨靶材价格

金属靶材，主要种类包括：铜、钽、铝、钛、钴和钨等高纯靶材，以及镍铂、钨钛等合金类的靶材。铜靶和钽靶通常配合起来使用。在国内，同时拥有冷喷涂和热喷涂生产技术和设备的企业凤毛麟角，广州的新材料成为了行业的先驱，喷涂制备二氧化钛及钛合金涂层的应用会为民用。热喷涂二氧化钛涂层;TiO2；旋转硅靶；旋转锌铝靶；靶材产业下游包括半导体、光伏电池、平板显示器等等。显示技术更迭发展，带来显示材料投资机会。预计2022年大部分国家显示面板整体规模将超1300亿美元，LCD面板占比约70%。中小尺寸OLED渗透率快速提升。大尺寸LCD占据主流。LCD与OLED在生产过程均会用到偏光片、玻璃基板、靶材、光掩膜版、光刻胶等产品。尤特新材料靶材项目投资总额为2亿元。 2018年底，磁控靶材免税政策到期，海外靶材的供应成本将提高，这将有利于国产化靶材的发展和渗透率提升。国内靶材市场目前，国内靶材厂商主要聚焦在低端产品领域，在半导体、平板显示器和太阳能电池等市场还无法与国际巨头一体竞争，但依靠国内的巨大市场潜力和利好的产业政策，以及产品势，它们已经在国内市场占有一定的市场份额，并逐步在个别细分领域抢占了部分国际大厂的市场空间。 低电压溅射制备ITO薄膜由于ITO薄膜本身含有氧元素，磁控溅射制备ITO薄膜的过程中，会产生大量的氧负离子，氧负离子在电场的作用下，以一定的粒子能量会轰击到所沉积的ITO薄膜表面，使ITO薄膜的结晶结构和晶体状态造成结构缺陷。溅射的电压越大，氧负离子轰击膜层表面的能量也越大。为了有效地降低磁控溅射的电压，以达到降低ITO薄膜电阻率的目的，可以采用一套特殊的溅射阴极结构和溅射直流电源，同时将一套3KW的射频电源合理地匹配叠装在一套6KW的直流电源上。在不同的直流溅射功率和射频功率下进行降低ITO薄膜溅射电压的工艺研究。