直流式磁控小型溅射仪

KT—Z1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压，电流反馈，样品台旋转，样品高度可调节及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。 技术参数 控制方式 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 溅射电源 直流溅射电源 镀膜功能 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 功率 ≤1000W 输出电压电流 电压≤1000V 电流≤1A 真空 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa 溅射真空 ≤30Pa 挡板类型 电控 真空腔室 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm 样品台 可旋转φ62 （可安装φ50基底） 样品台转速 8转/分钟 样品溅射源调节距离 40-105mm 真空测量 皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） 预留真空接口 KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口