等离子真空石英腔体

等离子真空石英腔体是一种石英材料制成的封闭腔室，内部常常充满等离子体气体。等离子体是一种高温、高密度的气体，由带正电荷的离子和带负电荷的电子组成，具有导电性能。这种石英腔可以用于等离子体物理研究、等离子体加工技术以及材料表面改性等领域。 等离子真空石英腔体可以有效地将等离子体与外界隔离，从而提高等离子体的纯度和密度，同时保护外部设备不受等离子体的影响。例如，在半导体制造过程中，石英腔可以通过对气体进行高频电场激励来产生等离子体，用于蚀刻、沉积和表面改性等工艺。此外，石英腔还能保持良好的热稳定性和耐腐蚀性，使其能够在高温、高压和高氧化性的环境下，长期运行。 电感耦合等离子（Inductively Coupled Plasma，ICP）和电容耦合等离子（Capacitively Coupled Plasma，CCP）是两种广泛用于实验室中的等离子体源。它们的主要区别在于它们产生等离子体的机制和特点。 ICP是在高整流器运作的RF（射频）电源提供的高频RF（常见频率是27.12 MHz）的作用下工作的，而这个RF电源将产生的高频电场通过感应耦合传送到气体放电管（都柏林管）内。这种电场产生了交变电压，导致气体分子发生电离，产生了等离子体。ICP的优点在于它可以产生非常高的电子温度和较高的等离子体密度，并用于产生高灵敏度的荧光谱检测。 另一方面，CCP是通过直接应用高频电场在带电片和反电极之间产生的交变电场来产生等离子体的。这种电场使电极表面产生周期性的荷电状态变化，从而促进了等离子体的生成。CCP的优点是其低能耗和简单的结构，但它通常只能产生低电子温度和低等离子体密度的等离子体，因此在荧光谱检测方面使用较少。 因此，这两种等离子体产生技术在实验室中都得到广泛应用，并根据所需的特定应用和实验室条件进行选择。 技术规格参数： 腔体材质：铝合金+石英玻璃 腔体尺寸：内径110mmx深度220MM 腔体容积：2.5L 腔体观察窗：内径φ35 石英玻璃 腔体抽气口：KF16 腔体进气口：6MM卡套 腔体真空度：机械泵小于等于0.5Pa