小型直流磁控溅射仪

小型直流磁控溅射仪， 轻便、溅射面积大 靶材可按用户要求加工制作 小型离子溅射仪信息由南京舜仪实验设备有限公司为您提供，如您想了解更多关于小型离子溅射仪报价、型号、参数等信息，欢迎来电或留言咨询 离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统，对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时，交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁，之后试样复原，再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料，有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料，氧气为离子溅射仪常用的反应气体 。 。637527962092626767271.jpg 小型直流磁控溅射仪技术参数； 控制方式 7寸人机界面 手动 自动模式切换控制 溅射电源 直流溅射电源 镀膜功能 0-999秒5段可变换功率及挡板位和样品速度程序 功率 ≤1000W 输出电压电流 电压≤1000V 电流≤1A 真空 机械泵 ≤5Pa（5分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa 溅射真空 ≤30Pa 挡板类型 电控 真空腔室 石英+不锈钢腔体φ160mm x 170mm 样品台 可旋转φ62 （可安装φ50基底） 样品台转速 8转/分钟 样品溅射源调节距离 40-105mm 真空测量 皮拉尼真空计（已安装 测量范围10E5Pa 1E-1Pa） 预留真空接口 KF25抽气口 KF16放气口 6mm卡套进气口