腔体真空等离子 FPC等离子清洗机 半导体等离子清洗机

产品参数

加工定制：是 种类：元素半导体 特性：表面离子活化 用途：表面深处理工艺，改善表面活性 提高达因值

1.1 产品原理 通过对工艺气体施加电场使电离化为等离子体。等离子体的“活性”组分包括：离子、电子、原子、自由活性基团、激发态的核素（亚稳态）、光子等。等离子处理就是通过利用这些活性组分的性质进行氧化、还原、裂解、交联和聚合等物理和化学反应改变样品表面性质，从而优化材料表面性能，实现清洁、改性、刻蚀等目的。

 二、产品介绍 2.1 产品概述 MKS-VAC100 真空等离子清洗机(Plasma cleaner)，气体通过激励电源离化成等离子态，等离子体作用于产品表面，清洗产品表面污染物，提高表面活性，增强附着性能。等离子清洗是一种新型的、环保、高效、稳定的表面处理方式。 

 2.2 产品优势 ?产品放置治具灵活多变，可适应不规则的产品。 ?水平电极设计，可满足软性产品处理需求。 低耗能、耗气产品。 ?便捷的收放板方式。 ?真空系统集成，占地面积小。 合理的等离子反应空间，使处理更均匀。 ?集成的控制系统设计，使操作更方便。

 2.3 产品结构 真空等离子体表面处理系统主要包括三个部分：真空腔及真空系统，等离子体发生器，控制系统。 （A）真空腔及真空发生系统 真空腔固定于机柜框架内，左右两侧为可拆门，因此内部的真空腔及真空系统的维修是极方便的。真空发生系统由波纹管、KF接头、真空泵以及油雾过滤器组成，核心部件真空泵（真空泵组）。 （B）等离子体发生器 等离子体发生器在20Pa-100Pa间给电极板施加电压，产生低温等离子体。利用高频转换技术形成高频电压加到电极板上，当真空腔内达到一定真空度时，产生等离子体放电现象，放电后电路会自动调节电压到适当值，保证电路正常稳定放电。 （C）控制系统 本系统使用MCGS触摸屏、西门子PLC、中文界面。设备的工艺流程控制：真空泵启动->挡板阀开启->达到设定的真空度->通入工艺气体->RF放电->工作时间到破真空->工作完成。设备分自动和手动两种方式。

产品实拍