小型磁控溅射仪

水冷型溅射仪，KT-Z1650PVD，是一种紧凑型全自动溅射镀膜机，使用非常简单。由于独特的插件概念，该设备很容易配置溅射或蒸发，只需更换工艺头。涂层前后可进行等离子处理。模块化设计使得避免金属和碳沉积之间的交叉污染变得容易。 高度调节和倾斜。它可以安装一个可选的变速旋转阶段或旋转行星阶段，每个选择持有不同的样本和存根类型。在所有样品阶段，膜厚监测都作为标准。. ?高性能溅射、碳涂层和等离子处理 ?获得的碳线轴–50个碳涂层，无需用户干预 ?独特的即插即用溅射和碳涂层模块 ?真空性能和快速泵送时间 磁控离子溅射仪为扫描电镜用户在制样过程中提供了更广泛的选择，以便适用支持扫描电子显微镜所需的涂层要求。磁控溅射的原理是，在电场内在叠加一个磁场，这样电子在叠加场内做螺旋运动，行程很长，每个电子电离的气体分子比直流多很多很多，所以可以在低电压下，有较好的真空度。溅射产生同样的镀膜效果。但是因为磁控真空度相对高，所以镀膜的颗粒小，膜层附着力好，靶材的利用率也高。 在直流溅射过程中，样品的温升主要来自于负离子在电场作用下对样品的轰击，在磁控溅射中，负离子都被磁场束缚了，所以基本没有对样品的轰击，所以温升基本没有，很适合温度敏感性的样品制备。